Použili jsme novou výrobní technologii, abychom vytvořili objektiv, u kterého jsme současně vylepšili numerickou aperturu, pracovní vzdálenost a plochost obrazu. Velká numerická apertura (NA) a 3mm pracovní vzdálenost těchto objektivů zlepšuje zorné pole a kvalitu obrazu od středu až po kraj, a poskytuje tak při automatizovaných kontrolách polovodičů vyšší výrobní kapacitu. K dispozici jsou objektivy pro pozorování ve světlém poli se zvětšením 20× a 50×.

Velká numerická apertura a dlouhá pracovní vzdálenost semiplanapochromatických objektivů MX Plan – MXPLFLN

• Určený k pozorování ve světlém poli, tmavém poli, s diferenciálním interferenčním kontrastem (DIC), fluorescenčnímu pozorování a pozorování s jednoduchým polarizovaným světlem
• Spojuje velkou NA s dlouhou pracovní vzdáleností a plochostí obrazu
• K dispozici se zvětšením 20× a 50× a pracovní vzdáleností 3 mm

MXPLFLN50X
Objektiv MXPLFLN50X je naším prvním objektivem se zvětšením 50×, jehož numerická apertura je 0,8 a pracovní vzdálenost 3 mm.Ve srovnání s objektivem LMPLFLN100X je zorné pole tohoto objektivu při zvětšení 50× čtyřikrát větší, a to díky numerické apertuře, která činí 0,8.

MXPLFLN20X
Objektiv MXPLFLN20X je naším prvním objektivem se zvětšením 20×, jehož numerická apertura je 0,6 a pracovní vzdálenost 3 mm.Díky velké numerické apertuře a velké plochosti obrazu vznikají homogenní obrazy, které jsou ideální pro spojování.