Usamos tecnologia de fabricação inovadora para criar lentes objetivas com abertura numérica, distância de trabalho e correção de aberração simultaneamente melhoradas. A abertura numérica (AN) alta e a distância de trabalho de 3 mm melhora o transporte da amostra, o que permite uma produtividade operacionais maior na inspeção automatizada de semicondutor. Estão disponíveis lentes 20X e 50X.

Objetivas MX planas semiapocromáticas com abertura numérica alta e distância de trabalho longa – MXPLFLN-BD

• Concebidas para os métodos de observação de campo claro, campo escuro, contraste de interferência diferencial (DIC), fluorescência e luz polarizada simples
• Combina uma alta NA, distância de trabalho longa e nivelamento da imagem
• Disponíveis em ampliações de 20X e 50X com uma distância de trabalho de 3 mm

MXPLFLN50XBD
A MXPLFLN50XBD é nossa primeira objetiva de 50X com uma abertura numérica de 0,8 e uma distância de trabalho de 3 mm. Comparada à objetiva LMPLFLN100X, o intervalo de observação é quatro vezes maior graças à AN de 0,8 com ampliação a 50X.

MXPLFLN20XBD
A MXPLFLN20XBD é nossa primeira objetiva de 20X com uma abertura numérica de 0,55 e uma distância de trabalho de 3 mm. Sua alta NA e o alto nivelamento da imagem produzem imagens homogêneas, ideais para a união de imagens.