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洞见博客

分步讲解技术清洁度检测的工作流程,第四部分:污染水平的计算

作者  -
活塞

对比标准清洁度测量

在这个由六篇博客组成的博客系列的第4篇博客中,我们将探讨如何计算污染水平,包括清洁度代码的定义和最大审核值的测试。我们先来看看整个技术清洁度检测工作流程都包含哪些环节以及污染水平的计算处于其中的位置:

  • 准备工作
    • 提取
    • 过滤
    • 烘干和称重
  • 检测
    • 图像获取
    • 颗粒的探测
    • 粒径的测量和分类
    • 颗粒计数外推法和归一化
    • 污染水平的计算
    • 清洁度代码的定义
    • 最大审核值
    • 反光颗粒和非反光颗粒的区分
    • 纤维鉴别
    • 结果的复核
    • 报告制作

计算污染水平

对于大多数清洁度标准,显示的是抽象数字,而不是所测量(或推断)颗粒的实际数量。然后,检查各粒度等级的污染水平。这是第二级分类,但这次未根据颗粒大小对其进行分类。而是根据类别中的颗粒数定义类别。通过这种污染水平的划分,能够轻松快速地比较不同的清洁度测量,不过有时过于简单化。

标准ISO 16232对典型的污染水平进行了定义:

  • 00级:每1000 cm2表面积的颗粒数量为0
  • 0级:每1000 cm2表面积的颗粒数量小于1
  • 1级:每1000 cm2表面积的颗粒数量大于1但小于2
  • 12级:每1000 cm2表面积的颗粒数量大于2000但小于 4000

这些污染等级定义用于大多数国际标准。通过各粒度等级的测量值,可定义多达26种不同水平。这些污染水平对于各粒度等级通常相似(例如,对于ISO 16232)(图1),但对于各等级其定义可不同(例如,对于SAE AS4059)。

图1:ISO 16232 (A) 污染水平示例。污染水平以红色显示。
图1:ISO 16232 (A) 污染水平示例。污染水平以红色显示。

清洁度代码的定义

部分标准将受测产品数据的表现形式简化为简短说明。这一清洁度代码取决于标准,并由粒度级别和所发现颗粒的污染水平组成。如下(图2)是ISO 16232 (A) 的清洁度代码示例,其中包括以下步骤:

  • 第1步:检测颗粒
  • 第2步:对颗粒进行归一化和分类
  • 第3步:检查污染水平

请注意,此清洁度代码形式仅适用于ISO 16232标准。其他标准定义不同的清洁度代码。第一个 "A" 表示1000 cm2样品表面积的归一化。可合并具有相同污染水平的相邻类。

图2:ISO 16232 (A) 清洁度代码示例。本例组件清洁度代码 (CCC) 结果为A (B12/C10/DE8/F3/G2/HIJ00)
图2:ISO 16232 (A) 清洁度代码示例。本例组件清洁度代码 (CCC) 结果为A (B12/C10/DE8/F3/G2/HIJ00)。

最大审核值

清洁度检测的实际目的是根据所选标准测量污染并描述结果。批准和检查最大值并非清洁度检查过程的必要部分。

最大限值在检测配置中予以指定。它可以是颗粒的绝对数量或最大清洁度代码。在检查滤膜时检查该值,并在超过最大允许值时立即显示。操作员可自由地完全停止测量过程,并调查污染源。

下例(图3)使用OLYMPUS CIX技术清洁度检测软件创建,显示的是扫描滤膜时的最大批准测试。

Vanta石墨烯窗口Vanta石墨烯窗口

图3:左图显示的是各结果仍没问题时2分钟扫描时间后的样品状态。右图显示的是2分钟后的扫描结果。现在,粒度等级为B、H和I的颗粒过多。因此,整体审批结果为“NOK”。

接下来是金属和非金属颗粒的分离以及纤维的识别。请阅读“分步讲解技术清洁度检测的工作流程”系列博客的第五篇:“反光颗粒/非反光颗粒的区分和纤维鉴别”。

相关内容

分步讲解技术清洁度检测的工作流程,第一部分

分步讲解技术清洁度检测的工作流程,第二部分

分步讲解技术清洁度检测的工作流程,第三部分

Product Applications Manager, Olympus Corporation of the Americas, Scientific Solutions Group

A member of the Olympus team since 2016, Hamish provides product and application support for Olympus industrial microscope systems throughout the Americas. He is an expert in inspection applications, image analysis, measurement, and reporting, as well as custom optical solutions, with an emphasis on technical cleanliness and semiconductor equipment.

四月 19, 2018
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