OLS4500
已停产的产品
概览
LEXT OLS4500 je mikroskop až s nonometrickým rozlišením, který kombinuje laserový mikroskop s mikroskopem se skenovací sondou (SPM), umožňující pozorování a měření širokém rozsahu zvětšení (od cca 50x do 1 000 000x)
- Nová řešení díky přístroji OLS4500
- Bezproblémové pozorování a měření díky přístroji OLS4500
- Šest měřicích režimů SPM s displejem se snadným naváděním
- Mikroskop LSM umožňuje flexibilní zacházení s různými vzorky
- Nekontaktní měření povrchové drsnosti mikroskopických oblastí
- Technologie mikroskopu OLS4500
Nová řešení díky přístroji OLS4500
Jakmile zachytí cíl, již jej nikdy neztratí.
 Metoda zvětšení / pozorování přepínáním otočné hlavice | Na otočné motorizované hlavici jsou nainstalovány čtyři objektivy s malým až velkým zvětšením spolu s jednotkou SPM. Mezi metodami zvětšení a pozorování lze hladce přepínat tak, že cíl pozorování zůstane zachycen v zorném poli. Přístroj OLS4500 provádí rychlé vyhledávání v nanopovrchové struktuře. |
Široká škála zvětšení a různých pozorovacích metod umožňuje snadno detekovat cíl pozorování.
| Se širokou škálou zvětšení a různým pozorovacím metodám podpořeným pokročilou optickou technologií mikroskop usnadňuje lokalizaci cíle pozorování. Kromě toho laserové DIC pozorování (pozorování s diferenciálním kontrastem rušení) umožňuje vizualizaci nepřesností v nanometrickém řádu v živém obrazu. |
Snižuje pracovní dobu od umístění vzorku po pořízení snímku.
Jakmile je vzorek umístěn do mikroskopu OLS4500, mohou být všechny následné operace provedeny stejným mikroskopem. Schopnost rychlé a přesné lokalizace cíle pozorování pomocí SPM umožňuje pořízení snímku cíle v jedné oblasti skenování.
Integrovaný design umožňuje použití jednoho mikroskopu jednoduchým přepínáním zvětšení a metody pozorování bez potřeby vyjmutí vzorku a jeho přesunutí do jiného mikroskopu.
 | Protože OLS4500 obsahuje optický, laserový a sondový systém mikroskopu, můžete podle potřeby přepínat mezi třemi režimy mikroskopu pro pozorování a vyhodnocování, aniž byste museli vyměnit vzorek. Každý ze zabudovaných mikroskopů je vybaven řadou výkonných funkcí zajišťujících optimální výstup. |
Bezproblémové pozorování a měření díky přístroji OLS4500
【Najít】Ihned najde oblast zájmu
Mikroskop OLS4500 dokáže rychle lokalizovat oblast zájmu pomocí široké škály pozorování a zvětšení se zachováním předmětu v zorném poli
Metody.
Jako světelný zdroj slouží bílá LED dioda, která zajišťuje jasná barevná zobrazení s mimořádnou reprodukcí barev. Čtyři objektivy umožňují pozorování s různými zvětšeními od malého po velké. Při plném využití funkcí optického mikroskopu je přístroj OLS4500 schopen provádět pozorování světlého pole (Brightfield, BF), které je nejběžnější, pozorování s diferenciálním kontrastem rušení (Differential Interference Contrast, DIC) pro stereoskopickou vizualizaci jemné povrchové struktury zvýšením kontrastu, a pozorování zjednodušeného polarizovaného světla, které představuje polarizační vlastnosti vzorku pomocí různých barev. Mezi další funkce patří vysoký dynamický rozsah (High Dynamic Range, HDR), který syntetizuje několik snímků pořízených s různou dobou expozice a vytváří tak zobrazení s vyváženým jasem a lepší strukturou. Přístroj OLS4500 dokáže rychle najít oblast zájmu pomocí různých pozorovacích metod.
 BF Světlé pole Nejčastěji používaná metoda pozorování. Přirozeně vypadající snímek s reálným barevným provedením. Metoda vhodná pro pozorování vzorků s vysokým kontrastem. |  DIC Diferenciální kontrast rušení Zvyšuje kontrast, aby umožnil stereoskopickou vizualizaci vzorků, které není možné pozorovat pomocí BF. Tato metoda je vhodná pro detekci vad a cizího materiálu u vzorků se zrcadlovými povrchy, jako např. u kovových struktur, pevných disků a leštěných povrchů polovodičových destiček. | |
 Zjednodušené polarizované světlo Vizualizace polarizačních vlastností (např. indexu lomu) vzorků pomocí odraženého polarizovaného světla (světla s konkrétním vibračním směrem). Vhodné pro pozorování kovových povrchů, minerálů a polovodičových materiálů. |  HDR Vysoký dynamický rozsah Vyvážené pozorování světlých a tmavých oblastí sloučením několika snímků pořízených s různou dobou expozice. Přesná pozorování jsou možná také díky zlepšení struktury (povrchových vlastností). |
LSM dokáže zviditelnit i to, co by optický mikroskop nedokázal.
| Díky krátkovlnnému laserovému světlu s 405 nm, objektivovým čočkám s vyšší aperturou (vysokou numerickou aperturou) a konfokální optice je možné vysoké rozlišení X-Y tak, že předměty, které nejsou viditelné s použitím optického mikroskopu, je možné pozorovat na jasných snímcích. Laserové DIC pozorování umožňuje živé pozorování nanometrického mikro povrchu. |
【Přístup】Získejte rychlý a přesný přístup k oblasti zájmu pomocí SPM
Hladké pozorování se zvětšením a zachováním předmětu v zorném poli
Na otočné motorizované hlavici jsou nainstalovány čtyři objektivy s malým až velkým zvětšením spolu s jednotkou SPM. Režim živého pozorování s 50násobným a 100násobným zvětšením pomocí optického mikroskopu nebo LSM umísťuje oblast SPM skenování do středu pole. Přesný přístup k oblasti zájmu získáte nastavením cílové značky nad oblastí a přepnutím do režimu skenovací sondy. To znamená, že cílový snímek získáte pomocí jediného SPM skenu, čímž zlepšíte efektivitu práce a snížíte opotřebení konzole.
Průvodce snadným přepínáním na SPM pozorování |
 | Přípravy na SPM pozorování, jako např. instalace konzole a nastavení oblasti skenování, je možné provést s pomocí průvodce, což znamená, že předběžné práce mohou provádět i pracovníci s minimálními zkušenostmi. |
【Nanometrická měření】Jednoduchá a rychlá měření
Nově vyvinutá SPM hlavice se sníženým šumem
 Nově vyvinutá kompaktní skenovací hlava SPM | Mikroskop OLS4500 obsahuje skenovací hlavu SPM určenou k instalaci na hlavici. Protože jsou objektiv a špička konzole v koaxiální parfokální poloze, nedojde ke ztrátě bodu pozorování ze zorného pole, dokonce ani po přepnutí do SPM režimu. Nově vyvinutá kompaktní hlavice SPM je robustnější, proto snižuje šum v obrazu a zlepšuje citlivost. |
Navigační zařízení pro požadované zvětšení oblasti
Navigační funkce umožňuje bližší zobrazení požadované oblasti na snímku pořízeném v režimu skenovací sondy provedením dalšího zvětšení. Cílový obraz lze získat jednoduchým nastavením oblasti zvětšení pomocí kurzoru a zahájením skenování sondou. Oblast skenování může být nastavena libovolně a umožňuje rychlejší a účinější pozorování a měření.
Navigační zařízení zvětšuje oblast 3,5 μm x 3,5 μm na snímek 10 μm x 10 μm
Analýzy splňující různé požadavky
 Měření zakřivení (důlky v pevných discích) | Snímek pořízený v režimu měření SPM může být analyzován tak, aby splňoval požadavky různých způsobů použití. Výsledky mohou být exportovány ve formátu CSV. Mikroskop OLS4500 nabízí následující analytické funkce.
|
Šest měřicích režimů SPM s displejem se snadným naváděním
Kontaktní režim
Tento režim staticky skenuje oblast nastavení pomocí konzole zatímco zachovává konstantní odpudivou sílu mezi konzolí a vzorkem, aby zobrazil výšku vzorku. Může být také použit pro měření křivky síly.
 |  Kovová tenká fólie |
Dynamický režim
Tento režim rozkmitává konzoli v blízkosti rezonanční frekvence a řídí vzdálenost směru Z, aby byla vibrační amplituda konstantní a došlo k zobrazení informací o výšce vzorku. Je vhodný pro vzorky s měkkými povrchy, jako např. polymery nebo viskózní materiály.
 |  Hliníkový povrch |
Fázový režim
Tento režim detekuje fázové zpoždění vibrací konzole během skenování v dynamickém režimu. Dokáže zobrazit rozdíl ve fyzikálních vlastnostech na povrchu vzorku.
 |  Polymerová fólie |
Proudový režim
Tento režim aplikuje předpětí na vzorek za účelem detekce a vizualizace průtoku proudu mezi konzolí a vzorkem. Slouží také k měření voltampérové charakteristiky.
 |  Ukázka vzoru SiO2 na Si podkladu. Žlutá oblast v zobrazení výšky (vlevo) je SiO2 a je na proudovém obrázku (vpravo) zobrazena modře (oblast bez toku proudu). Tyto obrázky ukazují, že v podkladu existují oblasti bez toku proudu. |
Režim povrchového potenciálu (KFM)
Tento režim aplikuje střídavé napětí pomocí vodicí konzole, detekuje elektrostatickou sílu objevující se mezi konzolí a vzorkem a vizualizuje elektrický potenciál na povrchu vzorku. Nazývá se režim Kelvinovy silové mikroskopie (Kelvin Force Microscopy, KFM).
 |  Vzorek magnetické pásky. Obrázek povrchového potenciálu zobrazuje, že je na povrchu vzorku napětí v rozsahu několika stovek mV. Toto rozdělení (rozptýlení) je považováno za odraz přítomnosti nepravidelností v mazací vrstvě na povrchu pásky. |
Režim magnetické síly (MFM)
Tento režim skenuje oblast nastavení s magnetizovanou konzolí ve fázovém režimu a detekuje fázová zpoždění ve vibracích konzole a poté vizualizuje magnetické informace týkající se povrchu vzorku. Tento režim se také nazývá režim mikroskopie magnetické síly (Magnetic Force Microscope, MFM).
 |  Vzorek pevného disku. Obrázek zachycuje rozdělení magnetických vlastností. |
Mikroskop LSM umožňuje flexibilní zacházení s různými vzorky
Zobrazování sklonu až 85°
Díky speciálním objektivovým čočkám s vysokými hodnotami numerických apertur a speciálním optickým systémem, který z laseru s vlnovou délkou 405 nm vytěží nadprůměrný výkon, dokáže mikroskop OLS4500 spolehlivě měřit vzorky s ostrými úhly, které by dříve neměřitelné.
 Specializované objektivové čočky LEXT |  Břitva s ostrým úhlem |
Měření mikroprofilu s vysokým rozlišením
Díky laserovému světlu s krátkou vlnovou délkou 405 nm a objektivové čočce s velkou aperturou je k dispozici rozlišení X-Y o velikosti 0,12 μm. Výsledkem je provádění submikronových měření povrchu vzorku pomocí mikroskopu OLS4500. V kombinaci s vysoce přesnou lineární stupnicí a originální technologií detekce intenzity společnosti Olympus je možné provádět zobrazování s vysokým rozlišením, přesná měření výšky v rozsahu od submikronů pro stovky mikronů. Kromě toho je mikroskop OLS4500 schopen zajistit jak „přesnost“, která označuje jak blízko je naměřená hodnota skutečné hodnotě, tak „opakovatelnost“, která označuje stupeň obměn mezi hodnotami opakovaných měření, což ukazuje výkon měřicího nástroje.
 Vzor linií a mezer s 0,12 μm |  (MPLAPON50XLEXT) Výškový standard STEP Typ B, PTB-5, Institut für Mikroelektronik, Německo, Detekce 6 nm v měření výšky |
Určení jakékoliv oblasti pořízení snímku z velké oblasti
Ačkoliv je zorné pole u snímku s vysokým rozlišením obecně úzké, funkce sešívání mikroskopu OLS4500 dokáže poskytnout data zobrazení s vysokým rozlišením a širokou oblastí pole spojením až 625 obrázků. Získaný širokoúhlý obrázek může být podroben 3D měření a může být vytvořen 3D snímek.
Nekontaktní měření povrchové drsnosti mikroskopických oblastí
Kromě liniové drsnosti umožňuje i měření rovinné drsnosti
 | S neustálým snižováním velikosti a hmotnosti moderních průmyslových produktů dochází i k miniaturizaci dílů, které jsou jejich součástí. Tento trend směřující k mikrominiaturizaci součástí zvyšuje důležitost měření povrchové drsnosti i měření geometrie dílů. S ohledem na tyto potřeby trhu přidala mezinárodní organizace pro normalizaci LSM a AFM na seznam přístrojů pro 3D měření povrchové struktury (ISO 25178-6). To znamená, že nekontaktní měření povrchové drsnosti je uznáno za oficiální hodnoticí normu stejně jako tradiční kontaktní měřidla povrchové drsnosti. Mikroskop OLS4500 nabízí parametry drsnosti, které splňují požadavky ISO. |
Měření rovinné drsnosti pro získání detailních informací
Nekontaktním měřením povrchové drsnosti lze získat rovinnou i liniovou drsnost. Měření rovinné drsnosti dokáže identifikovat rozdělení drsnosti včetně vlastností v oblasti vyznačené na povrchu vzorku, které mohou být sloučeny do 3D zobrazení pro následné vyhodnocení. Přístroj OLS4500 umí změřit povrchovou drsnost pomocí funkce LSM nebo SPM. Tyto dvě funkce lze zvolit na základě vlastností vzorku nebo podle účelu pozorování.
 | |
| Měření rovinné drsnosti pomocí LSM
(105 μm x 105 μm) Pojivová destička | Měření rovinné drsnosti pomocí SPM
(10 μm x 10 μm) |
Parametry mikroskopu LEXT OLS4500
Kompatibilita parametrů
Mikroskop OLS4500 je dodáván se stejnými parametry povrchového profilu jako kontaktní měřidla povrchové drsnosti a nabízí kompatibilní provozuschopnost a výsledky měření.
| Primární profil | Pp, Pv, Pz, Pc, Pt, Pa, Pq, Psk, Pku, Psm, PΔq, Pmr(c), Pδc, Pmr |
| Profil drsnosti | Rp, Rv, Rz, Rc, Rt, Ra, Rq, Rsk, Rku, Rsm, RΔq, Rmr(c),Rδc, Rmr, RZJIS, Ra75 |
| Profil vlnitosti | Wp, Wv, Wz, Wc, Wt, Wa, Wq, Wsk, Wku, Wsm, WΔq, Wmr(c), Wδc, Wmr |
| Křivka materiálového podílu profilu | Rk, Rpk, Rvk, Mr1, Mr2 |
| Vzor | R, Rx, AR, W, Wx, AW, Wte |
| Profil drsnosti (JIS1994） | Ra(JIS1994), Ry, Rz(JIS1994), Sm, S, tp |
| Ostatní | R3z, P3z, PeakCount |
Parametry nové generace
Mikroskop OLS4500 nabízí (3D) parametry drsnosti, které splňují požadavky ISO 25178. Díky vyhodnocení rovinatější oblasti je umožněna analýza s vysokou spolehlivostí.
| Parametry amplitudy | Sq, Ssk, Sku, Sp, Sv, Sz, Sa |
| Funkční parametry | Smr(c), Sdc(mr), Sk, Spk, Svk, SMr1, SMr2, Sxp |
| Objemové parametry | Vv(p), Vvv, Vvc, Vm(p), Vmp, Vmc |
| Boční parametry | Sal, Str |
Technologie mikroskopu OLS4500
Principy a funkce optického mikroskopu
 Pozorování ve světlém poli poskytuje informace v barvách. Inkoustové body. | Zobrazování optického mikroskopu využívající viditelný světelný rozsah (400 až 800 nm vlnové délky) umožňuje pozorování při zvětšeních dosahujících až cca 1000násobku. Optický mikroskop umožňuje pozorování vzorku v barvě, aby zvýraznil povrchovou strukturu přepínáním pozorovací metody a pozoroval látky s využitím jejich vlastností (polarizační vlastnosti). Mikroskop OLS4500 umí použít následující pozorovací metody.
|
Principy a funkce laserového skenovacího mikroskopu
LSM (laserový skenovací mikroskop) usnadňuje submikronové pozorování a měření
 Skenování XY s vysokým rozlišením laserového mikroskopu (názorný příklad) | Rozlišení roviny X-Y optického mikroskopu závisí do velké míry na vlnové délce použitého světla. LSM používá krátkovlnné světlo, takže rozlišení roviny X-Y je lepší než u tradičního mikroskopu, který používá viditelné světlo. Mikroskop OLS4500 obsahuje laserové světlo s krátkou vlnovou délkou 405 nm a kombinuje specializovaný objektiv s vysokou aperturou (vysokou numerickou aperturou) a konfokální optiku, čímž dosahuje rozlišení roviny X-Y v hodnotě 0,12 μm. Jeho skenovací funkce XY, která používá originální 2D skener Olympus, umožňuje skenování s vysokým rozlišením 4096 x 4096 pixelů (max). |
Mimořádná schopnost měření výšky
 Měření rozdílu mezi kroky | LSM používá pro detekci zaostřených obrázků krátkovlnné polovodičové laserové světlo a konfokální optický systém a současně při tom eliminuje obrázky, které nejsou v centru zaostření. V kombinaci s vysoce přesným měřítkem umožňuje zobrazování s vysokým rozlišením a současně s tím i přesné 3D měření. |
Principy a funkce mikroskopu se skenovací sondou
SPM (mikroskop se skenovací sondou) zobrazuje nanometrický svět
 Principy sondového mikroskopu | SPM je obecný název pro mikroskopy, které provádí pozorování typu 3D u vzorků s přiblížením malé sondy se zakřivenou špičkou s cca 10 nm k povrchu vzorku a skenováním vzorku při současné detekci dynamických a elektrických interakcí mezi sondou a vzorkem. Jedním z typických příkladů SPM je AFM (mikroskop atomárních sil), který zobrazuje drobnou povrchovou strukturu vzorku detekováním přitažlivých a odpudivých sil mezi sondou a povrchem vzorku. Pozorování na nanometrické úrovni umožňuje zachytit jemnou strukturu vzorku. |
Nanometrické pozorování se skenováním pomocí konzole
 Optická dráha SPM senzoru | Mikroskop OLS4500 využívá optický pákový systém, který dokáže detekovat mikrodeformaci (posun) konzole nesoucí na špičce sondu s vysokou citlivostí. S odražením laserového paprsku na zadní část konzole a s využitím pohonu osy Z pomocí piezo přístroje zasáhne paprsek určitý bod na fotodetektoru tak, aby mohl systém odečíst drobný posun osy Z. |
Různé modely pro zobrazování povrchové struktury a fyzikálních vlastností
Polymerová fólie | Režim skenovací sondy obsahuje různé režimy, které lze využít při pozorování struktury a měření povrchu vzorku včetně analýzy fyzikálních vlastností. Režimy dostupné u mikroskopu OLS4500 jsou následující.
|
Konzole: Klíč k vysokému rozlišení a kvalitě obrázku
Sonda je umístěna na špičce konzole listového typu s délkou zhruba 100 až 200 μm. Konstanta pružiny a rezonanční frekvence konzole jsou zvoleny podle charakteristiky vzorku. Protože po opakovaném používání sondy dochází k jejímu opotřebení, je nutné špičku konzole měnit pravidelně nebo podle potřeby.
悬臂
Wide Line of Olympus-Developed Cantilevers
The X-Y plane resolution of the SPM is determined by the probe tip diameter. The cantilevers developed and fabricated by Olympus assure stable probe tip quality to lead to high reliability. Unique designs such as “TipView” structure facilitates exact probe positioning, while the “New Concept Chip” improves usability as well as accuracy.
*A cantilever product catalog is separately available.
OMCL-AC160TS-C3 Standard Silicon Cantilever
High Q factor for high-resolution measurement
Widely used in dynamic mode measurements. It is suitable for surface roughness measurement.
 |  |
OMCL-AC240TS-C3 Medium-soft Silicon Cantilever
Viscoelasticity measurement with high reproducibility
Spring constant of 2 N/m (Nom.) is smallest of silicon cantilevers for AC series. It is therefore suitable for measurements of viscoelasticity of soft samples.
 |  |
OMCL-TR800PSA-1 Standard Silicon Nitride Cantilever
Low wear, excellent durability
Widely used in contact mode measurement, due to the cantilever softness and probe wear resistance. Each chip has two cantilevers of differing lengths of 100 μm and 200 μm.
 |  |
Compatible with a Wide Range of Cantilevers, Easy and Accurate Cantilever Replacement
The cantilever needs to be replaced, depending on the frequency of use. As the motorized revolving nosepiece, SPM scanner head and cantilever are precisely aligned, you can complete replacement of the cantilever just by inserting the position-aligned cantilever holder into the SPM scanner head. A special alignment tool is provided for use in the positioning of the cantilever and holder so that accurate adjustment is easy for anyone. Other types of cantilevers can also be replaced using the same procedure, thereby improving the efficiency of observation and measurement.
 Cantilever positioning alignment tool |  |
技术规格
Main Unit
| LSM Section > Light Source/Detector | Light Source: 405 nm Semiconductor Laser, Detector: Photomultiplier |
|---|---|
| LSM Section > Total Magnification | 108x – 17,280x |
| LSM Section > Zoom | Optical Zoom: 1x – 8x |
| LSM Section > Measurement > Planar Measurement > Repeatability | 100x : 3σn-1=0.02μm、50x：3σn-1=0.04μm、20x：3σn-1=0.1μm |
| LSM Section > Measurement > Planar Measurement > Accuracy | Measurement Value ±2% |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > System | Revolving Nosepiece Vertical-Drive System |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Stroke | 10mm |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Scale Resolution | 0.8nm |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Movement Resolution | 10nm |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Display Resolution | 1nm |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Repeatability | 100x :σn-1= 0.012μm、50x：σn-1＝0.012μm、20x：σn-1＝0.04μm |
| LSM Section > Measurement > Height Measurement > Accuracy | 0.2+L/100 μm or Less (L=Measuring Length) |
| LSM Section > Color Observation Section > Light Source/Detector | Light Source: White LED, Detector: 1/1.8-Inch 2-Megapixel Single-Panel CCD |
| LSM Section > Color Observation Section > Zoom | Digital Zoom: 1x – 8x |
| LSM Section > Revolving Nosepiece | Motorized BF Sextuple Revolving Nosepiece |
| LSM Section > Differential Interference Contrast Unit | Differential Interference Contrast Slider: U-DICR, Polarizing Plate Unit Built-In |
| LSM Section > Objective Lens | BF Plan Semi-apochromat 5x, LEXT-Dedicated Plan Apochromat 20x, 50x, 100x |
| LSM Section > Z Focusing Unit Stroke | 76 mm |
| LSM Section > XY Stage | 100 x 100 mm (Motorized Stage) |
| SPM Section > Measurement mode | Contact mode, Dynamic mode, Phase mode, Current mode*, Surface Potential (KFM) mode*, Magnetic Force (MFM) mode* |
| SPM Section > Displacement detection | Optical lever system |
| SPM Section > Light source | 659 nm Semiconductor Laser |
| SPM Section > Detector | Photodetector |
| SPM Section > Max. scanning range | X-Y: Max. 30μm x 30μm、Z: Max. 4.6μm |
| SPM Section > Cantilever mount | One-touch mount using cassette-type cantilever holder. With the pre-alignment using the dedicated special tool for cantilever mounting, optical alignment is not required when replacing the cantilever |
| System > Total weight | Approx. 440 kg (excluding table) |
| System > Input rating | 100 - 120 V/220 - 240V, 600VA, 50/60 Hz |
* Optional
Objective Lens
| Model | Magnification | Field of View | Working Distance (WD) | Numerical Aperture (NA) |
| MPLFLN5X | 108-864X | 2,560-320μm | 20.0mm | 0.15 |
| MPLAPON20XLEXT | 432-3,456X | 640-80μm | 1.0mm | 0.60 |
| MPLAPON50XLEXT | 1,080-8,640X | 256-32μm | 0.35mm | 0.95 |
| MPLAPON100XLEXT | 2,160-17,280X | 128-16μm | 0.35mm | 0.95 |
Cantilever
Application (Usage) | Product Name | Type | Chip Number | Cantilever | Probe | Material | Coating Metal | ||
| Resonance Frequency (kHz) | Spring Constant (N/m) | Height (μm) | Radius (nm) | Probe / Lever | Probe side / Reflex side | ||||
| Dynamic mode/ Phase Mode | OMCL-AC160TS-C3 | Standard silicon | 24 | 300 | 26 | 14 | 7 | Si / Si | Non / Al |
| OMCL-AC240TS-C3 | Medium-soft silicon | 24 | 70 | 2 | 14 | 7 | Si / Si | Non / Al | |
| Contact Mode | OMCL-TR800PSA-1 | Standard silicon nitride | 34 | 73 / 24 | 0.57 / 0.15 | 2.9 | 7 | SiN / SiN | Non / Au |
| Surface potential mode | OMCL-AC240TM-B3 | Silicon for electrical measurement | 18 | 70 | 2 | 14 | 15 | Si / Si | Pt/Al |
• The dimensions and mechanical properties shown above are typical values.
• Pay special attention as cantilevers are very small and subject to danger of getting could get into your eyes or be accidentally ingested.
• For information on using cantilevers for Current mode and Magnetic Force mode, please contact your Olympus dealer.
• In addition to the cantilevers shown here, a wide variety of cantilevers are available from Olympus. Please contact your Olympus dealer for details.
应用实例
 DVD Disc Surface (Scanning area: 5 μm x 5 μm, 3D image) Pits on the recording surface and surface conditions can be observed in detail. |  Vickers Indentation (Scanning area: 20 μm x 20 μm, 3D image) Cracks propagated from the apex angle of indentation are clearly visible. |
 TiO2 Monocrystal Substrate (Scanning area: 5 μm x 5 μm, 3D image) Atomic steps of approx. 0.3 nm TiO2 (oxidized titanium) can be seen. |  IC Pattern Hole (Scanning area: 4 μm x 4 μm, 3D image) Minute foreign particle (white area) attached to the pattern surface can be seen. |
 Polymer Film (Scanning area: 10 μm x 10 μm, 3D image) A flaw on the film surface (center left) can be seen. |  Aluminium Anode Oxide Layer (Scanning area: 1.8 μm x 1.8 μm, surface potential mode (KFM); Left: height image, Right: potential image) Surface shape (left) and surface potential (right) on the aluminium anode oxide layer are visible. A mesh structure that is not apparent in the height image is detected. |
 Color Printing Optical Microscope (50x) |  Color Printing SPM (Scanning area: 5 μm x 5 μm, 3D image) |
 Lactic Acid Bacteria LSM (Scanning area: 100 μm x 100 μm) |  Lactic Acid Bacteria SPM (Scanning area: 20 μm x 20 μm, height image) |
 Toner Particle LSM (Scanning area: 80 μm x 80 μm, Right above: 10 μm x 10 μm) |  Toner Particle SPM (Scanning area: 1 μm x 1 μm, 3D image) |