概览

Objektiv sesuper dlouhou pracovní vzdáleností

Poskytuje dlouhou pracovní vzdálenost mezi objektivem a vzorkem
Vhodný pro pozorování vzorků s rozsáhlými nepravidelnosti, například forem a kovových součástí

	Pracovní vzdálenost (mm)	Zvětšení _{*Na základě 27palcového monitoru}	Zorné pole (μm)	Numerická apertura
DSX10-SXLOB1X
	51,7	23–164 X	19200–2740	0,03
	_{*Model DSX10-SXLOB1X nepodporuje polarizační pozorování}
DSX10-SXLOB3X
	66,1	49–493 X	9100–910	0,09
	_{* Model DSX10-SXLOB3X nepodporuje polarizační pozorování}
DSX10-SXLOB10X
	41,1	164–1644 X	2740–270	0,2
	_{*Model DSX10-SXLOB10X nepodporuje polarizační pozorování}

	Pracovní vzdálenost (mm)	Zvětšení _{*Na základě 27palcového monitoru}	Zorné pole (μm)	Numerická apertura
DSX10-XLOB3X
	30	49–493 X	9100–910	0,09
	_{*Model DSX10-XLOB3X nepodporuje polarizační pozorování}
DSX10-XLOB10X
	30	164–1644 X	2740–270	0,3

DSX10-XLOB20X
	20	320–3280 X	1370–140	0,4

DSX10-XLOB40X
	4,5	650–6570 X	690–70	0,8

Poskytuje vysoký výkon na úrovni nanometrů
Pozorujte vzorky, které vyžadují vyšší rozlišení, jako jsou například polovodiče nebo wafery

	Pracovní vzdálenost (mm)	Zvětšení _{*Na základě 27palcového monitoru}	Zorné pole (μm)	Numerická apertura
MPLFLN1.25X
	3,5	26–206 X	17100–2190	0,04
	_{* Model MPLFN1.25X podporuje pouze pozorování BF a OBQ}
MPLFLN2.5X
	10,7	44–411 X	10200–1100	0,08
	_{* Model MPLFN2.5X podporuje pouze pozorování BF a OBQ}
MPLFLN5XBDP
	12	82–822 X	5480–550	0,15

MPLFLN10XBDP
	6,5	164–1644 X	2740–270	0,25

MPLFLN20XBDP
	3	320–3280 X	1370–140	0,4

MPLFLN50XBDP
	1	820–8220 X	550–55	0,75

MPLAPON50X
	0,35	820–8220 X	550–55	0,95
	_{* Model MPLAPON50X nepodporuje pozorování DF a smíšené pozorování}
LMPLFLN10XBD
	10	164–1644 X	2740–270	0,25

LMPLFLN20XBD
	12	320–3280 X	1370–140	0,4

LMPLFLN50XBD
	10,6	820–8220 X	550–55	0,5