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Objektiv mit sehr langem Arbeitsabstand

Ermöglicht einen langen Arbeitsabstand zwischen Probe und Objektiv
Geeignet für die Betrachtung von Proben mit großen Unregelmäßigkeiten, wie Gussteilen oder Metallteilen

	Arbeitsabstand (mm)	Vergrößerung _{* Basierend auf einem 27-Zoll-Monitor}	Sichtfeld (μm)	Numerische Apertur
DSX10-SXLOB1X
	51,7	23–164X	19.200–2.740	0,03
	_{* DSX10-SXLOB1X unterstützt keine Polarisationsmikroskopie}
DSX10-SXLOB3X
	66,1	49–493X	9.100–910	0,09
	_{* DSX10-SXLOB3X unterstützt keine Polarisationsmikroskopie}
DSX10-SXLOB10X
	41,1	164–1644X	2.740–270	0,2
	_{* DSX10-SXLOB10X unterstützt keine Polarisationsmikroskopie}

	Arbeitsabstand (mm)	Vergrößerung _{* Basierend auf einem 27-Zoll-Monitor}	Sichtfeld (μm)	Numerische Apertur
DSX10-XLOB3X
	30	49–493X	9.100–910	0,09
	_{* DSX10-XLOB3X unterstützt keine Polarisationsmikroskopie}
DSX10-XLOB10X
	30	164– 1644X	2.740 – 270	0,3

DSX10-XLOB20X
	20	320–3280X	1.370–140	0,4

DSX10-XLOB40X
	4,5	650–6570X	690–70	0,8

Bietet eine hohe Leistung im Nanometerbereich
Geeignet für die Betrachtung von Proben, die eine hohe Auflösung erfordern, wie Halbleitern und Wafern

	Arbeitsabstand (mm)	Vergrößerung _{* Basierend auf einem 27-Zoll-Monitor}	Sichtfeld (μm)	Numerische Apertur
MPLFLN1.25X
	3,5	26–206X	17.100–2.190	0,04
	_{* MPLFN1.25X unterstützt nur BF- und OBQ-Mikroskopie}
MPLFLN2.5X
	10,7	44–411X	10.200–1.100	0,08
	_{* MPLFN2.5X unterstützt nur BF- und OBQ-Mikroskopi}
MPLFLN5XBDP
	12	82–822X	5.480–550	0,15

MPLFLN10XBDP
	6,5	164– 644X	2.740–270	0,25

MPLFLN20XBDP
	3	320–3280X	1.370–140	0,4

MPLFLN50XBDP
	1	820–8220X	550–55	0,75

MPLAPON50X
	0,35	820–8220X	550–55	0,95
	_{* MPLAPON50X unterstützt keine DF- und MIX-Betrachtung}
LMPLFLN10XBD
	10	164–1644X	2.740–270	0,25

LMPLFLN20XBD
	12	320–3280X	1.370–140	0,4

LMPLFLN50XBD
	10,6	820–8220X	550–55	0,5