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Análisis del proceso de limpieza técnica — Cuarta parte: Cálculo del nivel de contaminación

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Comparación de mediciones de limpieza estándar

En la cuarta parte de esta serie de seis publicaciones, analizaremos cómo se calculan los niveles de contaminación, incluyendo la definición de los códigos de limpieza y las pruebas de las aprobaciones máximas. Aquí es donde el cálculo del nivel de contaminación encaja en el proceso general de inspección de la limpieza técnica:

  • Preparación
    • Extracción
    • Filtro
    • Secado y pesaje
  • Inspección
    • Adquisición de imágenes
    • Detección de partículas
    • Medición y clasificación de tamaño de partícula
    • Extrapolación y normalización de conteo de partícula
    • Cálculo de nivel de contaminación
    • Definición de código de limpieza
    • Verificación máxima de aprobación
    • Separación de partículas reflectantes y no reflectantes
    • Identificación de fibras
    • Revisión de resultados
    • Creación de informe

Cálculo del nivel de contaminación

Para la mayoría de los estándares de limpieza, se proyecta un número abstracto en lugar del número real de partículas medidas (o extrapoladas). A continuación, se comprueba el nivel de contaminación para cada clase de tamaño de partícula. Este es el segundo nivel de clasificación, pero esta vez las partículas no son clasificadas según su tamaño. Más bien, las clases se definen según la cantidad de partículas de la clase. Estos niveles de contaminación permiten la comparación simple y rápida de diferentes mediciones de limpieza, aunque a veces se trate de una simplificación excesiva.

Los niveles de contaminación típicos se definen en la norma ISO 16232:

  • Nivel 00: Ninguna partícula por cada 1000 cm2 de área superficial
  • Nivel 0: Menos de 1 partícula por cada 1000 cm2 de área superficial
  • Nivel 1: Más de 1 pero menos de 2 partículas por cada 1000 cm2 de área superficial
  • Nivel 12: Más de 2000 pero menos de 4000 partículas por cada 1000 cm2 de área superficial

Estos tipos de contaminación se definen conforme a la mayoría de las normas internacionales. Es posible definir hasta 26 niveles distintos, que serán medidos para cada clase de tamaño de partícula. Estos niveles de contaminación suelen ser similares para cada tipo de tamaño (p. ej. para ISO 16232) [Fig. 1], pero pueden definirse de forma diferente para cada tipo (p. ej. para SAE AS4059).

Figura 1: Ejemplo de los niveles de contaminación para ISO 16232 (A) Los niveles de contaminación se muestran en rojo.
Figura 1: Ejemplo de los niveles de contaminación para ISO 16232 (A). Los niveles de contaminación se muestran en rojo.

Definición del código de limpieza

Algunas normas reducen la representación de los datos de los productos medidos a sólo una breve descripción. Este código de limpieza depende del estándar y está compuesto por los tipos de tamaño y los niveles de contaminación de las partículas encontradas. A continuación (Fig. 2) se muestra un ejemplo de código de limpieza para ISO 16232 (A), que incluye los siguientes pasos:

  • Paso 1: Detección y medición de partículas
  • Paso 2: Normalización y clasificación de partículas
  • Paso 3: Verificación del nivel de contaminación

Tenga en cuenta que este formulario de código de limpieza es sólo para la norma ISO 16232. Las otras normas definen un código de limpieza diferente. La primera «A» indica la normalización al área superficial de la muestra de 1000 cm2. Las clases vecinas con el mismo nivel de contaminación se pueden combinar.

Figura 2: Ejemplo de un código de limpieza para ISO 16232 (A). El código de limpieza del componente resultante (CLC) para este ejemplo es A (B12/C10/DE8/F3/G2/HIJ00)
Figura 2: Ejemplo de un código de limpieza para ISO 16232 (A). El código de limpieza del componente resultante (CLC) para este ejemplo es A (B12/C10/DE8/F3/G2/HIJ00).

Verificación de aprobación máxima

El propósito real de la inspección de limpieza es medir la contaminación y describir los resultados de acuerdo con la norma seleccionada. La aprobación y comprobación de un valor máximo es sólo una opción y no siempre forma parte del proceso de inspección de limpieza.

El límite máximo se especifica en la configuración de inspección. Este puede ser la cantidad absoluta de partículas o un código de limpieza máxima. Este valor se comprueba durante el examen de la membrana de filtro y se indica inmediatamente cuando se supera el valor máximo permitido. El operador tiene la libertad de detener el proceso de medición completamente e investigar el origen de la contaminación.

El siguiente ejemplo (Fig. 3), creado mediante el software de inspección de limpieza técnica CIX de OLYMPUS, muestra la prueba para máxima aprobación mientras se escanea la membrana del filtro.

Ventana con película de grafeno para el analizador VantaVentana con película de grafeno para el analizador Vanta

Figura 3: La imagen de la izquierda muestra el estado de la muestra después de 2 minutos de escaneo, mientras que cada resultado sigue estando bien. La imagen de la derecha muestra el resultado del escaneo dos minutos después. Ahora hay demasiadas partículas en las clases de tamaño B, H e I. Por lo tanto, la aprobación general es «NOK» (incorrecto).

Lo que sigue es la separación de las partículas metálicas y no metálicas y la identificación de las fibras. Consulte a quinta parte de nuestra serie de seis publicaciones sobre el «Análisis del flujo de trabajo de limpieza técnica»: «Identificación de fibras y partículas reflectantes y no reflectantes».

Contenido relacionado

Análisis del proceso de limpieza técnica — Primera parte

Análisis del proceso de limpieza técnica — Segunda parte

Análisis del proceso de limpieza técnica — Tercera parte

Product Applications Manager, Olympus Corporation of the Americas, Scientific Solutions Group

A member of the Olympus team since 2016, Hamish provides product and application support for Olympus industrial microscope systems throughout the Americas. He is an expert in inspection applications, image analysis, measurement, and reporting, as well as custom optical solutions, with an emphasis on technical cleanliness and semiconductor equipment.

四月 19, 2018
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