Evident LogoOlympus Logo
资源库
应用说明
返回到资源库

ベアウエハのレーザーマーク


背景

半導体ウエアのロット管理をするうえでウエハマークは欠かせない存在です。一般的にはパルスレーザーをシリコンウエハに照射してウエハIDをマーキングします。レーザー照射によりシリコンウエハ表面上にできる凹みを格子状に並べ、ドットマトリックスと呼ばれる配列を形成して、文字やコードとしてマーキングします。 近年ではウエハの高密度化が進むとともに、薄型化も進んできており、マーキングサイズの微細化が求められ、レーザーマーキング技術の高精度化が必要となってきています。

オリンパスのソリューション

オリンパスのオプトデジタルマイクロスコープDSXは、高速でピント位置を移動して複数の画像を撮影することで、最終的に視野全体にピントが合った画像を撮影することができるEFI機能を搭載しています。これによりシリコンウエハ表面からレーザーマークの底までピントが合った画像を簡単に撮影することができます。また、各種測定機能も搭載しているので、レーザーマークの径、配列、ドットの深さなども精度良く測定することができます。

商品の特徴

  • 高分解能高解像観察
  • 視野全体にピントが合わせられるEFI機能
  • 各種寸法測定機能
  • 特徴点を際立たせる多様な画像処理
  • 微分干渉
  • 特別なスキルがなくても、誰にでも高品質な結果が得られるガイダンス機能

画像

ベアウエハのレーザーマーク

Olympus IMS

应用所使用的产品

高度な光学技術とデジタルイメージング技術を融合した、オリンパスのデジタルマイクロスコープDSX1000シリーズ。解析業務スピードの飛躍的向上と充実した精度保証によりをワークフロー革新を実現します。ISO/IEC 17025認定校正に対応しています。

Sorry, this page is not available in your country
Let us know what you're looking for by filling out the form below.
Sorry, this page is not available in your country