Evident LogoEvident Logo
资源库
应用说明
返回到资源库

Ocena kształtu wytwarzanych przy użyciu maski monochromatycznej matryc soczewek masek fotolitograficznych / Bezstykowy pomiar profilu powierzchni 3D przy użyciu mikroskopu laserowego


1. Zastosowanie

Technologia masek monochromatycznych (ang. gray-scale masks) jest wykorzystywana do produkcji form do mikrosoczewek o skomplikowanych kształtach lub innych produktów złożonych z trójwymiarowych mikrostruktur o wysokiej jakości. Maska monochromatyczna służy do nałożenia trójwymiarowego wzoru; powłoka w postaci fotorezystu jest naświetlana wiązką laserową o różnej mocy w celu utworzenia trójwymiarowego wzoru (Ryc. 1). Podczas procesu kontroli jakości wymagane jest zmierzenie trójwymiarowego kształtu fotorezystu po jego naświetleniu. Pomiar integralności trójwymiarowego wzoru musi być wykonywany bezstykowo, gdyż może on z łatwością ulec uszkodzeniu.

2. Rozwiązanie firmy Olympus

Skaningowy mikroskop laserowy 3D Olympus LEXT umożliwia bezstykowe rejestrowanie trójwymiarowych obrazów wklęsłych lub wypukłych kształtów monochromatycznej maski przy wysokiej rozdzielczości i wysokim kontraście. Dzięki obiektywom o wysokiej aperturze numerycznej i układowi optycznemu, który osiąga maksymalną wydajność przy użyciu lasera emitującego światło o długości fali 405 nm, mikroskop LEXT może precyzyjnie zarejestrować profil nieregularnych powierzchni nachylonych, generując powtarzalne, niezawodne profile w trójwymiarze (Ryc. 1). Poza pomiarem kształtów próbek użytkownicy mogą również dokładnie obrazować drobne nierówności przy użyciu laserowego kontrastu różnicowo-interferencyjnego.

Wzór wklęsłości
Maska monochromatyczna 凹 obiektyw 50×
Obiektyw: 50x 50X, zoom 1x
Maska monochromatyczna 凹 obiektyw 50×, 3D
Obiektyw: 50x 50X, zoom 1x
Maska monochromatyczna 凹 obiektyw 100×, 3D
Obiektyw: 100x 100X, zoom 1x
Wzór wypukłości
Maska monochromatyczna 凸 obiektyw 50×
Obiektyw: 50x 50X, zoom 1x
Maska monochromatyczna 凸 obiektyw 50×, 3D
Obiektyw: 50x 50X, zoom 1x
Maska monochromatyczna 凸 obiektyw 100×, 3D
Obiektyw: 100x 100X, zoom 1x

Ryc. 1. Obrazowanie wzorów wklęsłości i wypukłości za pomocą mikroskopu LEXT

Ryc. 2. Proces produkcji soczewki przy użyciu maski monochromatycznej.

Krok 1

  1. Nakładanie powłoki w postaci fotorezystu
    Nakładanie powłoki w postaci fotorezystu
    Nanieść fotorezyst na szkło.
     
  2. Odwzorowywanie (naświetlanie laserem)
    Odwzorowywanie (naświetlanie laserem)
    Naświetlać fotorezyst wiązką laserową o różnej mocy, aby uzyskać fotorezyst pozytywowy.
    Naświetlona powierzchnia jest odsłonięta i wygładzona.
     
  3. Zanurzenie w wywoływaczu
    Zanurzenie w wywoływaczu
    Wywołać fotorezyst i odciąć zbędne fragmenty. Dokonanie oceny profilu trójwymiarowego w tej fazie to kluczowy element zapewnienia jakości.

Krok 2

  1. Powlekanie galwaniczne
    Powlekanie galwaniczne
    Nanieść powłokę na fotorezyst.
     
  2. Wytrawianie
    Wytrawianie
    Rozpuścić fotorezyst poprzez wytrawianie i odwrócić powłokę, aby zakończyć tworzenie oryginalnej formy (forma metalowa).

Krok 3

  1. Połączyć termokompresyjnie folię z metalową formą.
    Połączyć termokompresyjnie folię z metalową formą
     
  2. Odbijanie
    Odbijanie
    Zdjąć folię z metalowej formy i odwrócić ją do góry nogami.
     
  3. Formowanie żywicy
    Formowanie żywicy
    Wylać żywicę na folię.
     
  4. Obróbka końcowa
    Obróbka końcowa
    Utwardzić żywicę i wyjąć ją z foliowej formy, aby ukończyć tworzenie soczewki.
Olympus IMS

应用所使用的产品

具有出色精度和光学性能的LEXT™OLS5100激光扫描显微镜配备了让系统更加易于使用的智能工具。其能够快速高效完成亚微米级形貌和表面粗糙度的精确测量任务,既简化了工作流程又能让您获得可信赖的高质量数据。

Sorry, this page is not available in your country
Let us know what you're looking for by filling out the form below.
Sorry, this page is not available in your country