概述
Zaawansowana mikroskopia, łatwa obsługaDzięki projektowi, w którym uwzględniono modułową konstrukcję, seria BX3M zapewnia elastyczność pracy w zastosowaniach materiałoznawczych i przemysłowych. Lepsza integracja mikroskopu BX53M z oprogramowaniem OLYMPUS Stream gwarantuje sprawny przepływ pracy podczas standardowych zadań mikroskopii oraz obrazowania cyfrowego — od obserwacji po tworzenie raportów. Poznaj mikroskop BX53M |
---|
Wybierz najlepszy modelSześć sugerowanych konfiguracji mikroskopu BX53M zapewnia swobodę podczas wyboru żądanych funkcji.
Zobacz więcej |
---|
Wygoda i łatwość użytkowaniaMikroskop BX53M upraszcza złożone zadania mikroskopowe dzięki dobrze zaprojektowanym i łatwym w obsłudze elementom sterującym. Użytkownicy mogą w pełni wykorzystać funkcje mikroskopu bez konieczności odbywania szczegółowego szkolenia. Łatwa i wygodna obsługa mikroskopu BX53M zwiększa również powtarzalność wyników, minimalizując prawdopodobieństwo popełnienia błędu przez człowieka.
Zobacz więcej |
---|
FunkcjonalnośćMikroskop BX53M obsługuje tradycyjne metody kontrastowania mikroskopii konwencjonalnej, takie jak obserwacja w jasnym polu, w ciemnym polu, w świetle spolaryzowanym oraz z kontrastem różnicowo-interferencyjnym. Wiele trudności związanych z wykrywaniem defektów przy użyciu standardowych metod kontrastu pojawiających się w miarę opracowywania nowych materiałów można rozwiązać za pomocą zaawansowanych technik mikroskopowych, które umożliwiają prowadzenie dokładniejszych i wiarygodnych kontroli. Dzięki nowym technikom oświetlenia oraz opcjom akwizycji obrazów dostępnym w oprogramowaniu do analizy obrazów OLYMPUS Stream użytkownicy mogą analizować próbki i dokumentować wyniki na więcej sposobów.
Zobacz więcej |
---|
Najnowocześniejsze układy optyczneDoświadczenie firmy Olympus w opracowywaniu układów optycznych o wysokiej jakości pozwala na konstruowanie znakomitych mikroskopów cechujących się wysoką dokładnością pomiaru.
Zobacz więcej | Minimalne aberracje czoła fali |
---|
配置
Skomponowanie wysoce niezawodnego systemu o modułowej konstrukcji
|
Przeznaczenie ogólne | Przeznaczenie do specjalnych zastosowań | |||||||||
PodstawowyŁatwa konfiguracja i podstawowe funkcje | StandardowyŁatwość użytkowania z | ZaawansowanyWyposażony w wiele zaawansowanych funkcji | FluorescencjaIdealnie nadaje się do | PodczerwieńPrzeznaczony do prowadzenia obserwacji w podczerwieni w celu kontroli układów scalonych | PolaryzacjaPrzeznaczony do prowadzenia obserwacji obiektów dwójłomnych | |||||
Filtr kolorów LCD | Mikrostruktura z ziarnami | Zwój drutu miedzianego | Opór na matrycy układu scalonego | Warstwa krzemowa matrycy układu scalonego | Azbest | |||||
Zobacz tabelę danych technicznych
Podstawowy | Standardowy | Zaawansowany | Fluorescencja | Podczerwień | Polaryzacja | |
Rama mikroskopu | Światło odbite lub światło odbite/światło przechodzące | Światło odbite lub światło odbite/światło przechodzące | Światło odbite | Światło przechodzące | ||
Standardowy | ||||||
Opcja | - | - | ||||
Prosty oświetlacz | - | - | - | - | ||
Legenda apertury | - | - | ||||
Kodowany sprzęt | - | - | ||||
Indeks skali ostrości | ||||||
Moduł zarządzania natężeniem światła | - | - | ||||
Obsługa za pomocą przełącznika ręcznego | - | - | ||||
Obserwacja MIX | - | - | ||||
Obiektywy | Do wyboru 3 obiektywy odpowiednio do zastosowania | Do wyboru 3 obiektywy odpowiednio do zastosowania | Obiektywy do obserwacji w podczerwieni | Obiektywy do obserwacji w świetle spolaryzowanym | ||
Stolik | Do wyboru 5 stolików odpowiednio do rozmiaru próbek | Do wyboru 5 stolików odpowiednio do rozmiaru próbek | Stolik do obserwacji w świetle spolaryzowanym |
METODA OBSERWACJIR-BF: jasne pole (światło odbite) *Metody T-BF można używać po wybraniu ramy mikroskopu do obserwacji w świetle odbitym/świetle przechodzącym. : Standard |
Przykładowe konfiguracje dla materiałoznawstwaModułowa konstrukcja umożliwia wybór konfiguracji dostosowanej do konkretnych wymagań użytkownika. |
Konfiguracja mikroskopu BX53M — obserwacja w świetle odbitym i w świetle odbitym/świetle przechodzącymW serii BX3M dostępne są dwa typy ram mikroskopu — jedna przeznaczona wyłącznie do obserwacji w świetle odbitym, a druga do obserwacji w świetle odbitym i przechodzącym. Obie ramy można skonfigurować w taki sposób, aby zawierały podzespoły ręczne, kodowane lub zmotoryzowane. Ramy są wyposażone w możliwość blokowania wyładowań elektrostatycznych, aby chronić próbki elektroniczne. | BX53MRF-S — przykładowa konfiguracja | BX53MTRF-S — przykładowa konfiguracja |
---|
Konfiguracja mikroskopu BX53M — obserwacja w podczerwieniObiektywy IR mogą być używane do zastosowań takich jak kontrola, wykonywanie pomiarów i obróbka półprzewodników, podczas których wymagane jest prowadzenie obrazowania przez warstwy krzemowe w celu obserwacji matrycy. Obiektywy do obserwacji w podczerwieni (IR) dostępne są w wariantach o powiększeniu od 5X do 100X, z korekcją aberracji chromatycznej od długości światła widzialnego do bliskiej podczerwieni. Podczas pracy przy dużych powiększeniach aberracje wywołane grubością próbki koryguje się, obracając kołnierz korekcyjny obiektywów z serii LCPLNIR. Wyraźny obraz można uzyskać za pomocą jednego obiektywu. Kliknij tutaj, aby uzyskać szczegółowe informacje na temat soczewek obiektywów do obserwacji w podczerwieni |
---|
Konfiguracja mikroskopu BX53M — obserwacja w świetle spolaryzowanymUkład optyczny dostępny w konfiguracji mikroskopu BX53M przeznaczonej do obserwacji w świetle spolaryzowanym udostępnia geologom narzędzia odpowiednie do prowadzenia wysokokontrastowego obrazowania w świetle spolaryzowanym. Stabilność systemu i precyzyjne wyrównywanie elementów układu optycznego są wysoce korzystne w przypadku zastosowań takich jak identyfikacja minerałów, badanie właściwości optycznych kryształów i obserwacja części skał litych. | BX53-P — konfiguracja ortoskopowa | BX53-P — konfiguracja konoskopowa/ortoskopowa |
---|
Soczewka Bertranda do obserwacji konoskopowych i ortoskopowychPrzystawka do obserwacji konoskopowych U-CPA ułatwia i przyspiesza przełączanie widoku między obserwacją ortoskopową a obserwacją konoskopową. Regulacja ogniskowej zapewnia uzyskiwanie wyraźnych wzorów interferencji tylnej płaszczyzny ogniskowania. Przysłona polowa Bertranda umożliwia generowanie jednolicie ostrych i wyraźnych obrazów konoskopowych. |
---|
Szeroka gama kompensatorów i płytek falowychDostępnych jest sześć różnych kompensatorów przeznaczonych do pomiarów dwójłomności w cienkich warstwach skał i minerałów. Zakres poziomu opóźnienia pomiaru wynosi od 0 do 20 λ. Aby ułatwić wykonywanie pomiarów i zwiększyć kontrast obrazu, można używać kompensatorów Bereka i Senarmonta, które zmieniają poziom opóźnienia w całym polu widzenia. |
---|
Zakres pomiarowy kompensatorów
|
*R = poziom opóźnienia |
Układ optyczny wolny od naprężeńDzięki zaawansowanej konstrukcji i technologii produkcyjnej firmy Olympus stosowanej w obiektywach UPLFLN-P maksymalnie zmniejszono naprężenia wewnętrzne. Oznacza to wyższą wartość EF, co przekłada się na doskonały kontrast obrazu. | Kliknij tutaj, aby uzyskać szczegółowe informacje na temat soczewek obiektywów UPLFLN-PKliknij tutaj, aby uzyskać szczegółowe informacje na temat soczewek obiektywów PLN-P / ACHN-P |
System BXFMSystem BXFM można zaadaptować do specjalnych zastosowań lub zintegrować z innymi przyrządami. Dzięki modułowej konstrukcji systemu można go łatwo zaadaptować do unikalnych środowisk i wybrać konfigurację z różnorodnymi małymi oświetlaczami i mocowaniami odpowiednimi do specjalnych zastosowań. |
---|
Dzięki modułowej konstrukcji stworzysz dokładnie taki system, jakiego potrzebujesz |
Ramy mikroskopuOferowane są dwie ramy mikroskopu przeznaczone do obserwacji w świetle odbitym; jedna z nich jest również przystosowana do obserwacji w świetle przechodzącym. Dostępny jest adapter, który umożliwia uniesienie oświetlacza w celu obserwacji wyższych próbek.
Akcesoria ułatwiające pracę z mikroskopem
|
StojakiW przypadku zastosowań w mikroskopii, podczas których próbka nie mieści się na stoliku, oświetlacz i elementy optyczne można przymocować do większego stojaka lub innego elementu wyposażenia. Konfiguracja z oświetlaczem BXFM + BX53M
Konfiguracja z oświetlaczem BXFM + U-KMAS
|
Nasadki obserwacyjneW przypadku obrazowania mikroskopowego przy użyciu okularów lub w przypadku obserwacji przez kamerę należy dobrać nasadki obserwacyjne odpowiednio do typu obrazowania oraz postawy operatora podczas obserwacji.
|
OświetlaczeOświetlacz emituje światło na próbkę w sposób odpowiedni do wybranej metody obserwacji. Oprogramowanie łączy się z kodowanymi oświetlaczami w celu odczytu pozycji kostki filtrowej i automatycznego rozpoznania metody obserwacji. |
Funkcja kodowana | Źródło światła | BF | DF | DIC | POL | IR | FL | MIX | AS/FS | ||
1 | BX3M-RLAS-S | Pozycja – 3 kostki, montaż na stałe | LED — wbudowane | ■ | ■ | ■ | ■ | - | - | ■ | ■ |
2 | BX3M-URAS-S | Pozycja — 4 kostki, mocowane | LED | ■ | ■ | ■ | ■ | - | - | ■ | ■ |
Halogen | ■ | ■ | ■ | ■ | ■ | - | ■ | ■ | |||
Lampa rtęciowa/światłowód | ■ | ■ | ■ | ■ | - | ■ | ■ | ■ | |||
3 | BX3M-RLA-S | LED | ■ | ■ | ■ | ■ | - | - | ■ | ■ | |
Halogen | ■ | ■ | ■ | ■ | ■ | - | ■ | ■ | |||
4 | BX3M-KMA-S | LED — wbudowane | ■ | - | ■ | ■ | - | - | ■ | - | |
5 | BX3-ARM | Ramię mechaniczne do obserwacji w świetle przechodzącym | |||||||||
6 | U-KMAS | LED | ■ | - | ■ | ■ | - | - | ■ | - | |
Halogen | ■ | - | ■ | ■ | ■ | - | ■ | - |
Źródła światłaŹródła światła i urządzenia zasilające do oświetlania próbki. Należy dobrać odpowiednie źródło światła do metody obserwacji. |
Konfiguracja ze standardowym źródłem światła LED
Konfiguracja ze źródłem światła fluorescencyjnego
| Konfiguracja ze źródłem halogenowym i źródłem halogenowym światła podczerwonego
|
Końcówki obiektywówPrzystawka do obiektywów i suwaków. Dobierana z uwzględnieniem potrzebnej liczby obiektywów i ich typów oraz tego, czy wymagana jest przystawka z suwakiem. |
Typ | Otwory | BF | DF | DIC | MIX | ESD |
Liczba otworów
centrujących | ||
1 | U-P4RE | Ręczny | 4 | ■ | ■ | 4 | |||
2 | U-5RE-2 | Ręczny | 5 | ■ | |||||
3 | U-5RES-ESD | Kodowany | 5 | ■ | ■ | ||||
4 | U-D6RE | Ręczny | 6 | ■ | ■ | ||||
5 | U-D6RES | Kodowany | 6 | ■ | ■ | ||||
6 | U-D5BDREMC | Zmotoryzowany | 5 | ■ | ■ | ■ | ■ | ||
7 | U-D6BDRE | Ręczny | 6 | ■ | ■ | ■ | ■ | ||
8 | U-D5BDRES-ESD | Kodowany | 5 | ■ | ■ | ■ | ■ | ■ | |
9 | U-D6BDRES-S | Kodowany | 6 | ■ | ■ | ■ | ■ | ■ | |
10 | U-D6REMC | Zmotoryzowany | 6 | ■ | ■ | ||||
11 | U-D6BDREMC | Zmotoryzowany | 6 | ■ | ■ | ■ | ■ | ■ |
SuwakiMożna wybrać suwak pozwalający na uzupełnienie tradycyjnej obserwacji w jasnym polu o dodatkowe techniki. Suwak DIC umożliwia uzyskanie informacji o topografii próbki; dostępne są opcje maksymalizacji kontrastu albo rozdzielczości. Suwak MIX zapewnia swobodę regulacji oświetlenia przy użyciu segmentowego źródła LED w drodze pola ciemnego. |
Suwak DIC
Suwak MIX
| Przewód
*Wyłącznie MIXR |
Moduły sterowania i przełączniki ręczneModuły sterowania przeznaczone do łączenia elementów sprzętowych mikroskopu z komputerem oraz przełączniki ręczne umożliwiające sterowanie mechanizmami i wyświetlanie związanych z nimi informacji. Konfiguracja BX3M-CB (CBFM)
Przewód
|
StolikiStoliki i płytki na stolik do umieszczania próbki. Dobierane do kształtu i rozmiaru próbki. |
Konfiguracja ze stolikiem 150 mm x 100 mm
Konfiguracja ze stolikiem 76 mm x 52 mm
| Konfiguracja ze stolikiem 100 mm x 100 mm
Inne
|
Adaptery do kamerAdapter do obserwacji przez kamerę. Dobierany odpowiednio do żądanego pola widzenia i powiększenia. Rzeczywisty zakres obserwacji można obliczyć ze wzoru: rzeczywiste pole widzenia (przekątna w mm) = pole obserwacji (numer) ÷ powiększenie obiektywu. |
Powiększenie | Regulacja wycentrowania | Pole obrazu matrycy CCD (numer pola) mm | ||||
2/3 cala | 1/1,8 cala | 1/2 cala | ||||
1 | U-TV1x-2 z U-CMAD3 | 1 | - | 10,7 | 8,8 | 8 |
2 | U-TV1xC | 1 | ø2 mm | 10,7 | 8,8 | 8 |
3 | U-TV0.63xC | 0,63 | - | 17 | 14 | 12,7 |
4 | U-TV0.5xC-3 | 0,5 | - | 21,4 | 17,6 | 16 |
5 | U-TV0.35xC-2 | 0,35 | - | - | - | 22 |
6 | U-TV0.25xC | 0,25 | - | - | - | - |
OkularyOkular przeznaczony do patrzenia bezpośrednio przez mikroskop. Dobierany odpowiednio do żądanego pola widzenia.
|
Filtry optyczneFiltry optyczne przekształcają światło ekspozycji próbki na różne typy oświetlenia. Filtr należy dobrać tak, aby uzyskać wymagane warunki obserwacji. |
BF, DF, FL
POL, DIC
| IR
Światło przechodzące
Inne
*W przypadku stosowania produktów BX3M-RLAS-S i U-FDICR filtry AN i PO nie są wymagane |
KondensoryKondensory zbierają i skupiają światło przechodzące. Są używane do obserwacji w świetle przechodzącym.
|
Zespoły zwierciadełZespół zwierciadeł dla systemu BX3M-URAS-S. Należy dobrać zespół do specyfiki obserwacji.
*Wyłącznie do współosiowego episkopowego oświetlenia |
Nasadki pośrednieRóżne typy akcesoriów przeznaczone do różnych zastosowań. Do użytku między nasadką obserwacyjną a oświetlaczem.
|
Obiektywy UIS2Obiektywy powiększają próbkę. Należy wybrać obiektyw dopasowany do odległości roboczej, zdolności rozdzielczej i metody obserwacji właściwej dla danego zastosowania. Kliknij tutaj, aby uzyskać szczegółowe informacje na temat soczewek obiektywów UIS2 |
简单易用
Tradycyjne techniki łatwe w obsłudze:
|
---|
Intuicyjne sterowanie mikroskopem:
|
---|
Szybka regulacja ostrościIndeks skali ostrości na ramie umożliwia szybki dostęp do punktu ogniskowego. Operatorzy mogą wyregulować przybliżony punkt ogniskowy bez oglądania próbki przez okular, co oszczędza czas podczas przeprowadzania kontroli próbek o różnych wysokościach. |
---|
Łatwa i wygodna obsługaKonstrukcja systemu wpływa na wydajność pracy użytkowników. Zarówno użytkownicy autonomicznych mikroskopów, jak i użytkownicy mikroskopów zintegrowanych z oprogramowaniem do analizy obrazów OLYMPUS Stream, odnoszą korzyści z wygodnych elementów sterujących modułu sterowania, które wyraźnie określają pozycje elementów sprzętowych. Proste moduły sterowania umożliwiają użytkownikowi skupienie się na próbce i kontroli, którą musi wykonać. |
---|
Jednolite oświetlenie:
|
---|
Przywracanie ustawień mikroskopu:
|
---|
功能
Zobaczyć niewidoczne:
|
---|
Ostrość na całej powierzchni obrazu: EFIFunkcja obrazowania z powiększoną głębią ostrości (EFI — Extended Focus Imaging) dostępna w oprogramowaniu OLYMPUS Stream rejestruje obrazy próbek, których wysokość wykracza poza głębię ostrości obiektywu, i łączy je, tworząc jeden, w pełni ostry obraz. Funkcja EFI może być stosowana zarówno z manualną, jak i zmotoryzowaną osią Z i tworzy mapę wysokości pozwalającą na łatwe wizualizowanie struktur. Obrazy EFI mogą być konstruowane w trybie offline, w aplikacji Stream Desktop. |
---|
Wizualizacja zarówno jasnych, jak i ciemnych obszarów: HDRFunkcja szerokiego zakresu dynamicznego (HDR — High Dynamic Range) za pomocą zaawansowanych technik przetwarzania obrazu kompensuje różnice w jasności na obrazie, aby ograniczyć lśnienie. HDR podnosi jakość wizualną obrazów cyfrowych, ułatwiając opracowywanie profesjonalnie prezentujących się raportów. | Wyraźne wyeksponowanie jasnych i ciemnych obszarów przy użyciu funkcji HDR (przykład: nabój z paliwem) | Wzmocnienie kontrastowe techniką HDR |
---|
Obraz Instant MIA monety | Łatwe przesuwanie stolika w celu uzyskania obrazów panoramicznych: Instant MIAW celu szybkiego i łatwego sklejenia obrazów wystarczy poruszyć pokrętłami osi XY na stoliku ręcznym — nie jest do tego wymagany stolik zmotoryzowany. Oprogramowanie OLYMPUS Stream, stosując technikę rozpoznawania wzorców, generuje obraz panoramiczny, oferując użytkownikowi szersze pole widzenia niż pojedyncza klatka. |
---|
Wszechstronność możliwości pomiarowych |
Funkcje pomiarów rutynowych lub podstawowychOprogramowanie OLYMPUS Stream udostępnia różne funkcje pomiarowe, dzięki czemu użytkownik może łatwo uzyskać przydatne dane z obrazów. W celu przeprowadzenia kontroli jakości i inspekcji często wymagane jest korzystanie z funkcji pomiarowych na obrazach. Wszystkie poziomy licencji oprogramowania OLYMPUS Stream obejmują interaktywne funkcje pomiarowe, takie jak odległości, kąty, prostokąty, koła, elipsy i wielokąty. Wszystkie wyniki pomiarów są zapisywane razem z plikami obrazów do celów dokumentacyjnych. |
---|
Count and Measure (Zliczanie i pomiar)Wykrywanie obiektów i określanie rozkładu rozmiarów należą do najważniejszych zastosowań obrazowania cyfrowego. Oprogramowanie OLYMPUS Stream zawiera silnik wykrywania, który wykorzystuje metody progowe do niezawodnego wyodrębniania obiektów (np. cząstki, rysy) z tła. |
---|
Rozwiązania w dziedzinie materiałoznawstwaOprogramowanie OLYMPUS Stream oferuje intuicyjny interfejs do kompleksowej analizy obrazów, ukierunkowany na realizację konkretnych procedur. Wystarczy kliknąć przycisk, aby szybko i dokładnie wykonać nawet najbardziej skomplikowane zadania związane z analizą, zachowując zgodność z najczęściej stosowanymi normami przemysłowymi. Dzięki znaczącemu przyspieszeniu zadań powtarzalnych materiałoznawcy mogą skupić się na przeprowadzaniu analizy i badań. W dowolnym momencie można łatwo wykonać dodatkowe moduły dla wykresów wtrąceń i siecznych. |
---|
Widok powierzchni 3D (przykład testu chropowatości) | Jeden widok i pomiar profilu 3D | Pomiar próbki 3DW przypadku stosowania zewnętrznego napędu zmotoryzowanego ogniskowania można szybko zarejestrować obraz EFI i wyświetlić go w trybie 3D. Uzyskanych danych dotyczących wysokości można użyć do wykonania pomiarów 3D w profilu lub z obrazu pojedynczego widoku. |
---|
Więcej informacji o oprogramowaniu Olympus Stream |
Zobacz więcej typów i rozmiarów próbekNowy stolik o wymiarach 150 × 100 mm zapewnia dłuższą drogę w osi X niż poprzednie modele. Cecha ta, w połączeniu z konstruktem płaskiego blatu, umożliwia łatwe umieszczenie dużych próbek lub wielu próbek na stoliku. Płytka na stolik ma nawiercone otwory, które umożliwiają przymocowanie uchwytu próbki. Większy stolik zapewnia większą elastyczność pracy — użytkownicy mogą przeprowadzać kontrolę większej liczby próbek przy użyciu jednego mikroskopu, co oszczędza cenne miejsce w laboratorium. Regulowany moment obrotowy stolika ułatwia precyzyjne pozycjonowanie przy dużym powiększeniu i wąskim polu widzenia. |
Elastyczność pod względem wysokości i masy próbkiNa stoliku z opcjonalną jednostką modułową można umieścić próbki o wysokości maksymalnie 105 mm. Dzięki ulepszonemu mechanizmowi ustawiania ostrości maksymalne obciążenie mikroskopu (próbka + stolik) wynosi 6 kg. Oznacza to, że za pomocą mikroskopu BX53M można przeprowadzać kontrolę większych i cięższych próbek — w laboratorium może zatem znajdować się mniejsza liczba mikroskopów. Dzięki strategicznemu ustawieniu obrotowego uchwytu na 6-calowe wafle w pozycji niecentralnej użytkownicy mogą obserwować całą powierzchnię wafla, obracając uchwyt podczas przemieszczania się w zakresie 100 mm. Regulacja momentu obrotowego stolika została zoptymalizowana pod kątem łatwości użytkowania, a wygodny uchwyt umożliwia proste odszukanie obszaru zainteresowania próbki. | BX53MRF-S |
---|
BXFM | Elastyczność pod względem wielkości próbkiGdy próbki są zbyt duże, aby umieścić je na tradycyjnym stoliku mikroskopu, główne elementy optyczne do mikroskopii w świetle odbitym można zintegrować w konfigurację modułową. Modułowy system BXFM można przymocować do większego stojaka lub innego elementu wyposażenia za pomocą wybranego mocowania. Dzięki temu użytkownicy mogą skorzystać z uznanych w branży elementów optycznych firmy Olympus, nawet jeśli próbki mają unikalny rozmiar lub kształt. |
---|
Ochrona urządzeń elektronicznych przed wyładowaniami elektrostatycznymi: zgodność z normą dotyczącą ESDSystem BX53M ma funkcję rozpraszania ESD, która chroni urządzenia elektroniczne przed wyładowaniami elektrostatycznymi spowodowanymi przez czynniki ludzkie lub środowiskowe. |
图像清晰
Historia najnowocześniejszych układów optycznych |
Doskonałe parametry optyczne:
| Nieprawidłowe czoło fali | Prawidłowe czoło fali (obiektyw UIS2) |
---|
Halogen: kolor zmienia się wraz z natężeniem światła. | LED: kolor jest niezależny od natężenia i wyraźniej odwzorowany niż w oświetleniu lampa halogenowa |
Stałość temperatury barw:
|
---|
Doskonała jakość i zaawansowana charakterystyka użytkowa |
Precyzyjne pomiary:
|
---|
Wafel półprzewodnikowy (obraz binarny): |
Łączenie bezspoinowe:
|
---|
Więcej informacji o oprogramowaniu Olympus Stream |
应用
Matryca układu scalonego na waflu półprzewodnikowymObserwacja w ciemnym polu służy do wykrywania bardzo małych rys lub wad na próbce oraz do badania próbek o powierzchni lustrzanej, w tym wafli półprzewodnikowych. Podświetlenie stosowane w metodzie obserwacji MIX umożliwia uwidocznienie zarówno matryc, jak i kolorów. | MIX (jasne pole + ciemne pole) | Ciemne pole |
---|
Fluorescencja | MIX (fluorescencja + ciemne pole) | Pozostałość fotomaski na waflu półprzewodnikowymTechnika fluorescencji jest używana w przypadku próbek emitujących światło po oświetleniu przez specjalnie zaprojektowaną kostkę filtrową. Służy ona do wykrywania zanieczyszczeń i pozostałości fotomaski. Podświetlenie stosowane w metodzie obserwacji MIX umożliwia uwidocznienie zarówno pozostałości fotomaski, jak i matrycy układu scalonego. |
---|
Filtr kolorów LCDTa technika obserwacji jest odpowiednia w przypadku próbek przezroczystych, takich jak wyświetlacze LCD, tworzywa sztuczne lub szkła. Podświetlenie stosowane w metodzie obserwacji MIX umożliwia uwidocznienie zarówno koloru filtra, jak i matrycy układu. | Światło przechodzące | MIX (światło przechodzące + jasne pole) |
---|
Jasne pole | Kontrast różnicowo-interferencyjny (DIC) | Żeliwo z grafitem sferoidalnymDIC to technika obserwacji, w której wysokość próbki jest widoczna jako relief, podobny do obrazu 3D ze wzmocnionym kontrastem; technika ta doskonale nadaje się do inspekcji próbek o minimalnych różnicach wysokości, w tym struktur metalurgicznych i minerałów. |
---|
SerycytKontrast różnicowo-interferencyjny (DIC) to technika obserwacji, w której wysokość próbki, normalnie niewykrywalna w jasnym polu, jest widoczna jako relief, podobny do obrazu 3D ze wzmocnionym kontrastem. Technika ta doskonale nadaje się do inspekcji próbek o minimalnych różnicach wysokości, w tym struktur metalurgicznych i minerałów. | Jasne pole | Światło spolaryzowane |
---|
Podczerwień (IR) | Pola kontaktowe na matrycy układu scalonegoTechnika IR znajduje zastosowanie w badaniach defektów wewnątrz układów scalonych i innych wyrobów wykonanych przy użyciu technologii Silicon-on-Glass (SiOG). |
---|
规格
DANE TECHNICZNE MIKROSKOPU BX53M W SUGEROWANEJ KONFIGURACJI PRZEZNACZONEJ DO ZASTOSOWAŃ OGÓLNYCH |
Podstawowy | Standardowy | Zaawansowany | |||||||
Układ optyczny | Układ optyczny UIS2 (optyka korygowana do nieskończoności) | ||||||||
Jednostka główna | Rama mikroskopu | BX53MRF-S (Światło odbite) | BX53MTRF-S (Światło odbite/światło przechodzące) | BX53MRF-S (Światło odbite) | BX53MTRF-S (Światło odbite/światło przechodzące) | BX53MRF-S (Światło odbite) | BX53MTRF-S (Światło odbite/światło przechodzące) | ||
Regulacja ostrości |
Skok: 25 mm
Skok precyzyjny na obrót: 100 μm Minimalna podziałka: 1 μm Ogranicznik górny, dźwignia do zgrubnej regulacji momentu obrotowego | ||||||||
Maks. wysokość próbki |
Światło odbite: 65 mm (bez podkładki), 105 mm (z BX3M-ARMAD)
Światło odbite/światło przechodzące: 35 mm (bez podkładki), 75 mm (z BX3M-ARMAD) | ||||||||
Nasadka obserwacyjna | Szerokie pole widzenia (F.N.22) | U-TR30-2-2 Odwrócona: trinokularowa | |||||||
Oświetlenie |
Światło odbite
Światło przechodzące | BX3M-KMA-S Biała dioda LED, BF/DIC/POL/MIX FS, AS (z mechanizmem centrującym), blokada BF/DF | BX3M-RLAS-S Kodowany, biała dioda LED, BF/DF/DIC/POL/MIX FS, AS (z mechanizmem centrującym), blokada BF/DF | ||||||
- | BX3M-LEDT Biała dioda LED Kondensory Abbego/o dużej odległości roboczej | - | BX3M-LEDT Biała dioda LED Kondensory Abbego/o dużej odległości roboczej | - | BX3M-LEDT Biała dioda LED Kondensory Abbego/o dużej odległości roboczej | ||||
Rewolwerowa końcówka obiektywu | U-5RE-2 Do BF: pięciomiejscowy | U-D6BDRE Do BF/DF: sześciomiejscowy | U-D6BDRES-S Do BF/DF: sześciomiejscowy, kodowany | ||||||
Okular (F.N.22) | WHN10
WHN10X-H | ||||||||
Obserwacja MIX | - | BX3M-CB Moduł sterowania BX3M-HS Przełącznik ręczny U-MIXR Suwak MIX do obserwacji w świetle odbitym U-MIXRCBL Przewód do MIXR | |||||||
Kondensor (duża odległość robocza) | - | U-LWCD | - | U-LWCD | - | U-LWCD | |||
Kabel zasilający | UYCP (x1) | UYCP (x2) | |||||||
Masa |
Światło odbite: ok. 15,8 kg (rama mikroskopu 7,4 kg)
Światło odbite/światło przechodzące: ok. 18,3 kg (rama mikroskopu 7,6 kg) | ||||||||
Obiektywy | Zestaw MPLFLN | MPLFLN5X, 10X, 20X, 50X, 100X Obserwacja metodą BF/POL/FL | - | ||||||
Zestaw MPLFLN BD | - | MPLFLN5XBD, 10XBD, BD, 50XBD, 100XBD Obserwacja metodą BF/DF/DIC/POL/FL | |||||||
Zestaw MPLFLN-BD, LMPLFLN-BD | - | MPLFLN5XBD, 10XBD, LMPLFLN20XBD, 50XBD, 100XBD Obserwacja metodą BF/DF/DIC/POL/FL | |||||||
Stolik (X x Y) | Zestaw 76 mm x 52 mm | U-SVRM, U-MSSP Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie / 76 (X) × 52 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego | |||||||
Zestaw 100 mm x 100 mm | U-SIC4R2, U-MSSP4 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 100 (X) x 100 (Y) mm, z mechanizmem blokady w osi Y | ||||||||
Zestaw 100 mm x 100 (G) mm | U-SIC4R2, U-MSSPG Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 100 (X) x 100 (Y) mm, z mechanizmem blokady w osi Y (płytka szklana) | ||||||||
Zestaw 150 mm x 100 mm | U-SIC64, U-SHG, U-SP64 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 150 (X) x 100 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego, z mechanizmem blokady w osi Y | ||||||||
Zestaw 150 mm x 100 (G) mm | U-SIC64, U-SHG, U-SPG64 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 150 (X) x 100 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego, z mechanizmem blokady w osi Y (płytka szklana) | ||||||||
Opcja | Zestaw do obserwacji MIX* | BX3M-CB, BX3M-HS, U-MIXR, U-MIXRCBL | - | ||||||
DIC* | U-DICR | ||||||||
Nasadki pośrednie | U-CA, U-EPA2, U-TRU | ||||||||
Filtry | U-25ND6, U-25ND25, U-25LBD, U-25LBA, U-25Y48, U-AN360-3, U-AN360P, U-PO3, U-POTP3, U-25IF550, U-25L42, U-25, U-25FR | ||||||||
Filtry dla kondensora | 43IF550-W45, U-POT | ||||||||
Płytka na stolik | U-D6BDRES-S, U-D6RE-ESD-2, U-D6BDRES-ESD, U-5RES-ESD | ||||||||
Uchwyt badanego materiału | U-HRD-4, U-HLD-4, U-HRDT-4, U-HLDT-4 | ||||||||
Gumowy uchwyt | U-SHG, U-SHGT |
*Nie może być używany z produktem U-5RE-2.
JEDNOSTKI ESD BX53M / BXFM
Elementy | Rama mikroskopu | BX53MRF-S, BX53MTRF-S |
Oświetlacz | BX3M-KMA-S, BX3M-RLA-S, BX3M-URAS-S, BX3M-RLAS-S | |
Końcówka obiektywu | U-D6BDREMC, U-D6BDRES-S, U-D6RE-ESD, U-D5BDREMC-ESD, U-5RES-ESD | |
Stolik | U-SIC4R2, U-MSSP4 |
DANE TECHNICZNE MIKROSKOPU BX53M W SUGEROWANEJ KONFIGURACJI PRZEZNACZONEJ DO SPECJALNYCH ZASTOSOWAŃ |
Fluorescencja | Podczerwień | Światło spolaryzowane | |||||
Układ optyczny | Układ optyczny UIS2 (optyka korygowana do nieskończoności) | ||||||
Jednostka główna | Rama mikroskopu | BX53MRF-S (Światło odbite) | BX53MTRF-S (Światło odbite/światło przechodzące) | BX53MRF-S (Światło odbite) | BX53MTRF-S (Światło odbite/światło przechodzące) | ||
Regulacja ostrości |
Skok: 25 mm
Skok precyzyjny na obrót: 100 μm Minimalna podziałka: 1 μm Ogranicznik górny, dźwignia do zgrubnej regulacji momentu obrotowego | ||||||
Maks. wysokość próbki |
Światło odbite: 65 mm (bez podkładki), 105 mm (z BX3M-ARMAD)
Światło odbite/światło przechodzące: 35 mm (bez podkładki), 75 mm (z BX3M-ARMAD) | ||||||
Nasadka obserwacyjna | Szerokie pole widzenia (F.N.22) | U-TR30-2 Odwrócona: trinokularowa | U-TR30IR Odwrócona: trinokularowa do podczerwieni | U-TR30-2 Odwrócona: trinokularowa | |||
Przystawka pośrednia do obserwacji w świetle spolaryzowanym (U-CPA) | Soczewka Bertranda | - | - | Możliwość regulacji ogniskowej | |||
Przysłona polowa Bertranda | - | - | Średnica ø3,4 mm (stała) | ||||
Należy włączyć lub wyłączyć zmianę soczewki Bertranda między obserwacją ortoskopową a obserwacją konoskopową | - | - |
Pozycja suwaka ● wsunięty
Pozycja suwaka ○ wysunięty | ||||
Gniazdo analizatora | - | - | Obrotowy analizator z gniazdem (U-AN360P-2) | ||||
Oświetlenie | Światło odbite | Obserwacja FL | BX3M-URAS-S Kodowany, 4-pozycyjna głowica rewolwerowa zespołu zwierciadeł (standardowa: WB, WG, WU+BF itd.) z FS, AS (z mechanizmem centrującym), z mechanizmem sterowania przysłoną | - | - | ||
Obserwacja IR | - | BX3M-RLA-S Lampa halogenowa 100 W dla IR, BF/IR, AS (z mechanizmem centrującym) U-LH100IR (w tym HAL-L 12 V 10 W) Halogenowe źródło światła 100 W dla IR TH4-100 Zasilanie 100 W TH4-HS Przełącznik ręczny U-RMT Przedłużacz | - | ||||
Światło przechodzące | Obserwacja POL | - | - | BX3M-LEDT Biała dioda LED Kondensory Abbego/o dużej odległości roboczej | |||
Rewolwerowa końcówka obiektywu | U-D6BDRES-S Do BF/DF: sześciomiejscowy, kodowany | U-5RE-2 Do BF: pięciomiejscowy | U-P4RE Czteromiejscowy, mocowane podzespoły z możliwością centrowania Płytkę ćwierćfalową wprowadzającą opóźnienie (U-TAD), płytkę barwioną (U-TP530) oraz różne kompensatory można przymocować za pomocą adaptera płytki (U-TAD) | ||||
Okular (F.N.22) | WHN10X | ||||||
WHN10X-H | CROSS-WHN10X | ||||||
Zespoły zwierciadeł | U-FDF Do BF, odłączany filtr ND U-FBFL Do BF, wbudowany filtr ND U-FWUS Do fluorescencji w świetle UV U-FWBS Do fluorescencji niebieskiej U-FWGS Do fluorescencji zielonej | - | |||||
Filtr / Polaryzator / Analizator | U-25FR Filtr frost | U-BP1100IR/U-BP1200IR Filtry pasmowoprzepustowe do IR | 43IF550-W45 Filtr zielony | ||||
U-POIR Suwak polaryzatora do obserwacji w świetle odbitym do IR | U-AN360IR Obrotowy suwak analizatora do IR | U-AN360P-2 Tarcza z możliwością obrotu o 360° Minimalny kąt obrotu 0,1° | |||||
Kondensor | U-LWCD Duża odległość robocza | - | U-POC-2 Achromatyczny kondensor wolny od naprężeń. Polaryzator z możliwością obrotu o 360° z wychylną achromatyczną górną soczewką. Możliwość regulacji blokady w pozycji „0°”. NA 0,9 (górna soczewka włożona) / NA 0,18 (górna soczewka wyjęta) Przysłona apertury: możliwość regulacji średnicy w zakresie od 2 mm do 21 mm | ||||
Suwaki / Kompensatory | - | U-TAD Suwak (adapter płytki) | |||||
U-TP530 / U-TP137 Kompensatory | |||||||
Kabel zasilający | UYCP (x1) | UYCP (x2) | UYCP (x1) | ||||
Masa | Światło odbite: ok. 15,8 kg (rama mikroskopu 7,4 kg) | Światło odbite/światło przechodzące: ok. 18,3 kg (rama mikroskopu 7,6 kg) | ok. 18,9 kg (rama mikroskopu 7,4 kg) | ok. 16,2 kg (rama mikroskopu 7,6 kg) | |||
Źródło światła FL odbitego | Światłowód | Zestaw światłowodu U-LGPS, U-LLGAD, U-LLG150 | - | - | |||
Lampa rtęciowa | Zestaw lampy rtęciowej U-LH100HGAPO1-7, USH-103OL (x2), U-RFL-T, U-RCV | - | - | ||||
Obiektywy | Zestaw MPLFLN | MPLFLN5X, 10X, 20X, 50X, 100X Obserwacja metodą BF/DIC/POL/FL | - | - | |||
Zestaw MPLFLN BD | MPLFLN5XBD, 10XBD, BD, 50XBD, 100XBD Obserwacja metodą BF/DF/DIC/POL/FL | - | - | ||||
Zestaw MPLFLN-BD, LMPLFLN-BD | MPLFLN5XBD, 10XBD, LMPLFLN20XBD, 50XBD, 100XBD Obserwacja metodą BF/DF/DIC/POL/FL | - | - | ||||
Zestaw IR | - | LMPLN5XIR, 10XIR, LCPLN20XIR, 50XIR, 100XIR Obserwacja IR | - | ||||
Zestaw POL | - | - | UPLFLN4XP, 10XP, 20XP, 40XP Obserwacja POL | ||||
Stolik (X x Y) | Zestaw 76 mm x 52 mm | U-SVRM, U-MSSP Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie / 76 (X) × 52 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego | |||||
Zestaw 100 mm x 100 mm | U-SIC4R2, U-MSSP4 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 100 (X) x 100 (Y) mm, z mechanizmem blokady w osi Y | ||||||
Zestaw 100 mm x 100 (G) mm | U-SIC4R2, U-MSSPG Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 150 (X) x 100 (Y) mm, z mechanizmem blokady w osi Y (płytka szklana) | ||||||
Zestaw 150 mm x 100 mm | U-SIC64, U-SHG, U-SP64 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 150 (X) x 100 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego, z mechanizmem blokady w osi Y | ||||||
Zestaw 150 mm x 100 (G) mm | U-SIC64, U-SHG, U-SPG64 Stolik ze współosiową rękojeścią po prawej stronie, rozmiar duży / 150 (X) x 100 (Y) mm, z regulacją momentu obrotowego, z mechanizmem blokady w osi Y (płytka szklana) | ||||||
Zestaw POL | - | I-SRP-1-2+U-FMP Obrotowy stolik do obserwacji w świetle spolaryzowanym + mechaniczny stolik | |||||
Opcja | Zestaw do obserwacji MIX* | BX3M-CB, BX3M-HS, U-MIXR, U-MIXRCBL | |||||
DIC* | U-DICR | ||||||
Nasadki pośrednie | U-CA, U-EPA2, U-TRU | ||||||
Filtry | U-25ND6, U-25ND25, U-25LBD, U-25LBA, U-25Y48, U-AN360-3, U-AN360P, U-PO3, U-POTP3, U-25IF550, U-25L42, U-25, U-25FR | ||||||
Filtry dla kondensora | 43IF550-W45, U-POT | ||||||
Płytka na stolik | U-WHP64, BH2-WHR43, BH2-WHR54, BH2-WHR65, U-WHP2, BH2-WHR43 | ||||||
Uchwyt badanego materiału | U-HRD-4, U-HLD-4, U-HRDT-4, U-HLDT-4 | ||||||
Gumowy uchwyt | U-SHG, U-SHGT |
*Nie może być używany z produktem U-5RE-2
资源
Uwagi dotyczące aplikacjiFilmySeminaria internetoweInstrukcje obsługi |