Se ha usado una innovadora tecnología de fabricación para crear lentes de objetivo dotados simultáneamente de una apertura numérica mejorada, distancia de trabajo y corrección de la aberración. Su elevada apertura numérica (A. N.) y la distancia de trabajo de 3 mm mejoran el campo visual y la calidad de la imagen desde el centro hasta los flancos, lo que permite un rendimiento superior en la inspección automatizada de semiconductores. Hay lentes de 20X y 50X disponibles para campo claro.

Objetivos de plan semiapocromático MX con alta apertura numérica y larga distancia de trabajo: MXPLFLN

• Diseñados para métodos de observación de campo claro, contraste de interferencia diferencial (DIC), fluorescencia y luz polarizada simple
• Combinan una alta apertura numérica, una larga distancia de trabajo y planitud de imagen 
• Disponibles en magnificaciones de 20X y 50X con una distancia de trabajo de 3 mm 

MXPLFLN50X
El objetivo MXPLFLN50X es nuestro primer objetivo de 50X con una apertura numérica de 0.8 y una distancia de trabajo de 3 mm. En comparación con un objetivo LMPLFLN100X, el campo visual es cuatro veces superior gracias a la apertura numérica de 0.8 en una magnificación de 50X.

MXPLFLN20X
El objetivo MXPLFLN20X es nuestro primer objetivo de 20X con una apertura numérica de 0.6 y una distancia de trabajo de 3 mm. Su amplitud numérica elevada y la gran planitud de las imágenes generan imágenes homogéneas que son ideales para la aplicación mosaico.