Abbiamo adottato una nuova tecnologia produttiva per creare obiettivi offrendo simultaneamente un'apertura numerica, una distanza di lavoro e una planarità delle immagini migliorate. Le loro alta apertura numerica (NA) e la distanza di lavoro da 3 mm migliorano il campo visivo e la qualità di immagini dal centro al bordo, in grado di permettere una maggiore produttività nell'ispezione automatizzata del semiconduttore. Sono disponibili obiettivi in campo chiaro 20X e 50X.

Obiettivi MX Plan Semi-Apochromat con elevata apertura numerica e lunga distanza di lavoro – MXPLFLN

• Progettati per metodi di osservazione in campo chiaro, contrasto interferenziale (DIC), fluorescenza e semplice luce polarizzata
• Combinano un'elevata NA, una lunga distanza di lavoro e una planarità dell'immagine
• Sono disponibili ingrandimenti 20X e 50X con una distanza di lavoro con 3 mm.

MXPLFLN50X
L'MXPLFLN50X è il nostro primo obiettivo 50X con un'apertura numerica di 0,8 e una distanza di lavoro di 3 mm. In confronto all'obiettivo LMPLFLN100X il campo visivo è quattro volte maggiore grazie alla NA di 0,8 e all'ingrandimento 50X.

MXPLFLN20X
L'MXPLFLN20X è il nostro primo obiettivo 20X con un'apertura numerica di 0,6 e una distanza di lavoro di 3 mm. La sua elevata NA e l'alta planarità dell'immagine permettono di produrre delle immagini omogenee ideali per lo stitching.