概述
Skaningowy mikroskop laserowy 3D LEXT™ OLS5100
Mikroskop laserowy do analizy materiałów
Inteligentny przepływ pracy, szybsze eksperymenty
Mikroskop laserowy OLS5100, stworzony do analizy usterek i prowadzenia badań z zakresu inżynierii materiałowej, łączy w sobie wyjątkową dokładność pomiarów i wydajność układu optycznego z inteligentnymi narzędziami, które sprawiają, że mikroskop jest łatwy w obsłudze. Precyzyjny pomiar kształtu i chropowatości powierzchni na poziomie submikronowym szybko i skutecznie upraszcza pracę i zapewnia wiarygodne dane.
Obejrzyj filmŁatwiejsze prowadzenie eksperymentów z zakresu inżynierii materiałowej oraz analizy usterekMenedżer Smart Experiment Manager upraszcza procesy związane z obserwacją 3D na poziomie submikronowym i analizą usterek, automatyzując zadania, które dotychczas zajmowały sporo czasu.
|
Gwarantowana dokładność pomiaru
Obiektywy mikroskopu LEXT zapewniają wysoką dokładność danych pomiarowych. W połączeniu z oprogramowaniem Smart Lens Advisor mikroskop umożliwia uzyskanie precyzyjnych, wiarygodnych danych.
- Gwarantowana dokładność pomiaru*
- Znakomity układ optyczny firmy Olympus redukuje aberracje, umożliwiając rejestrowanie rzeczywistego kształtu próbki w całym polu widzenia
- Oprogramowanie Smart Lens Advisor ułatwia dobór obiektywu odpowiedniego do pomiaru chropowatości
Prosta skaningowa mikroskopia laserowaDzięki przemyślanemu oprogramowaniu obsługa mikroskopu nie sprawia trudności ani doświadczonym, ani początkującym użytkownikom.
|
优势特性
Laser Microscope Benefits | ||
1. Sub-micron 3D observation/measurement Observe steps in the nanometer range and measure height differences at the sub-micron level. | ||
2. ISO25178-compliant surface roughness measurement Measure surface roughness from linear to planar | ||
3. Non-contact, nondestructive, and fast No sample preparation required—simply place the sample on the stage and you're ready to measure. |
Reliable Data at the Push of a ButtonSmart Scan II Experienced and novice users alike can acquire data quickly and easily with the Smart Scan II feature. Place the sample on the stage, press the start button, and the microscope does the rest.
|
Measurement performance guarantee tailored to your operating environment | |
Accuracy and repeatability guaranteed | |
Surface metrology beyond the field of view *Only for OLS5100-SAF/EAF |
User-Friendly High-Resolution/High-Magnification Observation | ||
Continuous auto focus The microscope’s continuous autofocus keeps your images in focus when moving the stage or changing objectives, minimizing the need for manual adjustments. Permanent focus tracking enables you to perform observations quickly and easily. | ||
Dual DIC for nano-scale, real-time observation Detect minute damage in your sample with real-time, nanometerscale observation. Differential interference contrast (DIC) observation enables you to visualize nanometer-scale surface contours that are normally beyond the resolving power of a laser microscope. With DIC laser mode, the OLS5100 microscope can obtain live images comparable to those of an electron microscope, even when using a 5x or 10x low-power objective. | Back surface of wafer | Hard disk landing zone |
Comprehensive AnalysisMany analysis functions are available. The following is just an example, so please download the brochure or contact your Evident representative for details. | |
ISO25178 compliant areal roughness measurement The OLS5100 microscope scans the sample surface with a 0.4 μm diameter laser beam, enabling it to easily measure the surface roughness of samples that cannot be measured with contact surface roughness gauges. The ability to simultaneously acquire the color image, laser image, and 3D shape data of a surface that can't be measured with a contact surface roughness gauge expands the scope of analysis. | |
Measurement of the step between the highest and lowest points in a surface profile | Profile measurement/ Measurement assist tool The profile measurement function displays the surface profile by arbitrarily drawing a measurement line on the position to be measured on an image. It also measures the step between any two arbitrary points, width, cross-sectional area, and radius. Unlike contact-based measuring tools, setting the measured positions is easy. The measurement lines and points can be checked on the image, so even a very small site can be measured accurately. With the Measurement assist tool, the point to be measured can be correctly specified using the highest, lowest, middle, and/or mean points. When a site is specified in the acquired data, the feature points are automatically extracted according to specified conditions. |
软件
Proste zarządzanie eksperymentami z zakresu inżynierii materiałowej oraz analizy usterek
Zarządzanie warunkami eksperymentu podczas badania nowych materiałów jest skomplikowane — menedżer Smart Experiment Manager dostępny w mikroskopie laserowym OLS5100 upraszcza ten proces, automatyzując kluczowe etapy, takie jak tworzenie planu eksperymentu.
- Wykonuj pomiary do 30% szybciej*
- Plan skanu jest automatycznie uzupełniany rejestrowanymi danymi
- Oprogramowanie samo uzupełnia dane — nie trzeba już tracić czasu na ich wprowadzanie
*W porównaniu z mikroskopem OLS5000
Prosta organizacja danych dotyczących warunków eksperymentu
Wystarczy kliknąć dowolną komórkę w planie eksperymentu, a oprogramowanie automatycznie wygeneruje nazwę pliku, który zawiera warunki oceny, co ułatwia prowadzenie dokumentacji. Każdy plik zawiera powiązane obrazy i dane.
Łatwe wykrywanie problemów z danymi
Kolorowa mapa ułatwia analizę danych z eksperymentu i przeprowadzanie kontroli pod kątem braków danych i błędów. Ewentualne problemy można wykryć i wyeliminować na wczesnym etapie procesu.
Dobór odpowiedniego obiektywu
Oprogramowanie Smart Lens Advisor ułatwia dobór obiektywu odpowiedniego do pomiaru chropowatości konkretnej powierzchni. Wystarczy wprowadzić podstawowe informacje, takie jak wartość pola widzenia i dane dotyczące żądanego obiektywu, a oprogramowanie Advisor doradzi, czy jest on odpowiedni do danego zastosowania.
Łatwa rejestracja danych
Zarówno doświadczeni, jak i początkujący użytkownicy mogą szybko i łatwo rejestrować dane dzięki funkcji Smart Scan II. Wystarczy położyć próbkę na stoliku i nacisnąć przycisk rozpoczęcia — mikroskop zadba o resztę.
规格
Jednostka główna
Model | OLS5100-SAF | OLS5100-SMF | OLS5100-LAF | OLS5100-EAF | ||
---|---|---|---|---|---|---|
Powiększenie całkowite | 54x – 17 280x | |||||
Pole widzenia | 16 µm – 5 120 µm | |||||
Zasada pomiaru | Układ optyczny |
Refleksyjny skaningowy konfokalny mikroskop laserowy
Refleksyjny skaningowy konfokalny mikroskop laserowy DIC Kolor Kolor-DIC | ||||
Zasada pomiaru | Detektor |
Laser: fotopowielacz (2 kanały)
Kolor: kamera kolorowa CMOS | ||||
Pomiar wysokości | Rozdzielczość wyświetlania obrazu | 0,5 nm | ||||
Pomiar wysokości | Zakres dynamiczny | 16 bitów | ||||
Pomiar wysokości | Powtarzalność σn-1*1 *2 *5 | 5X: 0,45 μm, 10X: 0,1 μm, 20X: 0,03 μm, 50X: 0,012 μm, 100X: 0,012 μm | ||||
Pomiar wysokości | Dokładność *1 *3 *5 | 0,15+L/100 μm (L: zmierzona długość [μm]) | ||||
Pomiar wysokości | Dokładność na obrazach sklejanych *1 *3 *5 | 10X: 5,0+L/100 μm, 20X lub więcej: 1,0+L/100 μm (L: długość sklejania [μm]) | ||||
Pomiar wysokości | Zakłócenia pomiaru (Sq noise) *1 *4 *5 | 1 nm (typ) | ||||
Pomiar szerokości | Rozdzielczość wyświetlania obrazu | 1 nm | ||||
Pomiar szerokości | Powtarzalność 3σn-1 *1 *2 *5 | 5X: 0.4 μm, 10X: 0.2 μm, 20X: 0.05 μm, 50X: 0.04 μm, 100X: 0.02 μm | ||||
Pomiar szerokości | Dokładność *1 *3 *5 | Wartość pomiaru +/- 1,5% | ||||
Pomiar szerokości | Dokładność na obrazach sklejanych *1 *3 *5 | 10X: 24+0,5L μm, 20X: 15+0,5L μm, 50X: 9+0,5L μm, 100X: 7+0,5L μm (L: długość sklejania [mm]) | ||||
Maksymalna liczba punktów pomiarowych w jednym pomiarze | 4096 × 4096 pikseli | |||||
Maksymalna liczba punktów pomiarowych | 36 megapikseli | |||||
Konfiguracja stolika XY | Moduł do pomiaru długości | • | nd. | nd. | • | |
Konfiguracja stolika XY | Zakres działania | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 cala) Zmotoryzowany | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 cala) Ręczny | 300 × 300 mm (11,8 × 11,8 cala) Zmotoryzowany | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 cala) Zmotoryzowany | |
Maksymalna wysokość próbki | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 cala) | 30 mm (1,2 cala) | 30 mm (1,2 cala) | 210 mm (8,3 cala) | ||
Źródło światła laserowego | Długość fali | 405 nm | ||||
Źródło światła laserowego | Moc maksymalna | 0,95 mW | ||||
Źródło światła laserowego | Klasa lasera | Klasa 2 (IEC60825-1:2007, IEC60825-1:2014) | ||||
Źródło światła kolorowego | Biała dioda LED | |||||
Zasilanie | 240 W | 240 W | 278 W | 240 W | ||
Masa | Korpus mikroskopu | Ok. 31 kg (68,3 funta) | Ok. 32 kg (70,5 funta) | Ok. 50 kg (110,2 funta) | Ok. 43 kg (94,8 funta) | |
Masa | Moduł sterowania | Ok. 12 kg (26,5 funta) |
*1 Gwarantowane przy eksploatacji w stałej temperaturze i środowisku o niezmiennej temperaturze (temperatura: 20˚C±1˚C, wilgotność: 50%±10%) określonych w normie ISO554(1976), JIS Z-8703(1983).
*2 Przy powiększeniu 20x lub wyższym i pomiarze z użyciem obiektywów z serii MPLAPON LEXT.
*3 Przy pomiarze ze specjalnym obiektywem LEXT.
*4 Typowa wartość przy pomiarze z obiektywem MPLAPON100XLEXT; może odbiegać od wartości gwarantowanej.
*5 Gwarancja w ramach systemu certyfikacji firmy Olympus.
** Licencja na system operacyjny Windows 10 została zatwierdzona do użytku na sterowniku mikroskopu dostarczonym przez firmę Olympus. W związku z tym użytkownika obowiązują warunki licencji udzielanej przez firmę Microsoft i użytkownik musi wyrazić na nie zgodę. Warunki licencji udzielanej przez firmę Microsoft można znaleźć na wskazanej poniżej stronie.
https://www.microsoft.com/en-us/Useterms/Retail/Windows/10/UseTerms_Retail_Windows_10_english.htm
Obiektywy
Seria | Model | Apertura numeryczna (NA) | Odległość robocza (WD) (mm) |
---|---|---|---|
Obiektyw UIS2 | MPLFLN2.5x | 0,08 | 10,7 |
MPLFLN5x | 0,15 | 20 | |
Specjalny obiektyw LEXT (10X) | MPLFLN10xLEXT | 0,3 | 10,4 |
Specjalny obiektyw LEXT (wariant o podwyższonych parametrach) | MPLAPON20xLEXT | 0,6 | 1 |
MPLAPON50xLEXT | 0,95 | 0,35 | |
MPLAPON100xLEXT | 0,95 | 0,35 | |
Specjalny obiektyw LEXT (wariant ze zwiększoną odległością roboczą) | LMPLFLN20xLEXT | 0,45 | 6,5 |
LMPLFLN50xLEXT | 0,6 | 5,2 | |
LMPLFLN100xLEXT | 0,8 | 3,4 | |
Obiektyw o wyjątkowo dużej odległości roboczej | SLMPLN20x | 0,25 | 25 |
SLMPLN50x | 0,35 | 18 | |
SLMPLN100x | 0,6 | 7,6 | |
Obiektyw LCD ze zwiększoną odległością roboczą | LCPLFLN20xLCD | 0,45 | 8.3-7.4 |
LCPLFLN50xLCD | 0,7 | 3.0-2.2 | |
LCPLFLN100xLCD | 0,85 | 1.2-0.9 |
Oprogramowanie aplikacji
Oprogramowanie standardowe | OLS51-BSW | |||
---|---|---|---|---|
Oprogramowanie standardowe | Aplikacja do akwizycji danych | Aplikacja do analizy (prosta analiza) | ||
Aplikacja w pakiecie ze stolikiem zmotoryzowanym*1 | OLS50-S-MSP | |||
Aplikacja do analizy zaawansowanej*2 | OLS50-S-AA | |||
Aplikacja do pomiaru grubości powłoki | OLS50-S-FT | |||
Aplikacja do automatycznego pomiaru krawędzi | OLS50-S-ED | |||
Aplikacja do analizy cząstek | OLS50-S-PA | |||
Aplikacja zapewniająca całościowe wsparcie podczas eksperymentu | OLS51-S-ETA | |||
Aplikacja do analizy kątów powierzchni sfer/walców | OLS50-S-SA |
*1 Wraz z funkcjami akwizycji danych z automatycznym sklejaniem i akwizycji danych z wielu obszarów.
*2 Wraz z analizą profilu, analizą różnic, analizą wysokości uskoków, analizą powierzchni, analizą pola/objętości, analizą chropowatości linii, analizą chropowatości powierzchni i analizą histogramu.
Mikroskopy laserowe Olympus
Przykładowa konfiguracja OLS5100-SAF
OLS5100-SAF
| ||
OLS5100-EAF
| ||
OLS5100-SMF
| ||
OLS5100-LAF
|