Usamos tecnologia de fabricação inovadora para criar lentes objetivas com abertura numérica, distância de trabalho e correção de aberração simultaneamente melhoradas. Sua alta abertura numérica (AN) e a distância de trabalho de 3 mm melhoram o campo de visão e a qualidade da imagem do centro até a borda, o que permite maior produtividade operacional na inspeção automatizada de semicondutor. Estão disponíveis lentes de campo claro de 20X e 50X.

Objetivas MX planas semiapocromáticas com abertura numérica alta e distância de trabalho longa – MXPLFLN

• Concebidas para os métodos de observação de campo claro, DIC (contraste de interferência diferencial), fluorescência e luz polarizada simples
• Combina uma alta NA, distância de trabalho longa e nivelamento da imagem 
• Disponíveis em ampliações de 20X e 50X com uma distância de trabalho de 3 mm 

MXPLFLN50X
A MXPLFLN50X é nossa primeira objetiva de 50X com uma abertura numérica de 0,8 e distância de trabalho de 3mm. Em comparação com a objetiva LMPLFLN100X, o campo de visão é quatro vezes maior graças à AN de 0,8 com ampliação a 50X.

MXPLFLN20X
A MXPLFLN20X é nossa primeira objetiva de 20X com uma abertura numérica de 0,6 e uma distância de trabalho de 3 mm. Sua alta NA e o alto nivelamento da imagem produzem imagens homogêneas, ideais para a união de imagens.