观察和分析工具

• 先进的分析工具
• 支持洁净室合规性的先进设计

先进的分析工具

MX63系列的各种观察功能可生成清晰锐利的图像，让用户能够对样品进行可靠的缺陷检测。全新照明技术和PRECiV图像分析软件的图像采集选项为用户评估样品和记录结果提供了更多选择。

从不可见到可见：MIX观察和图像采集

MIX观察技术通过将暗场与明场、荧光或偏振光等其他观察方法相结合，生成独特的观察图像。MIX观察技术使用户能够查看使用传统显微镜难以看到的缺陷。暗场观察所用的环形LED照明器具有在指定时间仅使用一个象限的定向暗场功能。该功能可减少样品光晕，对于样品表面纹理的可视化非常有用。

半导体晶圆上的结构

半导体晶圆上的光刻胶残留

聚光镜

轻松生成全景图像：即时MIA

使用多图像拼接（MIA）功能时，用户只需转动手动载物台上的KY旋钮，即可快速轻松完成图像拼接 — 电动载物台无需进行该操作。PRECiV软件采用模式识别生成全景图像，让用户获得更宽的视场。

硬币的即时MIA图像

生成全聚焦图像：EFI

PRECiV的景深扩展成像（EFI）功能可采集高度超出景深范围的样品图像，并将其合成一幅全聚焦图像。EFI可配合手动或电动Z轴聚焦装置使用，以生成高度图像，轻松实现对结构的可视化观察。在PRECiV Desktop离线时，也可以生成EFI图像。

集成电路芯片上的凸块

利用HDR同时采集明亮区域和暗光区域

采用先进图像处理技术的高动态范围（HDR）可调整图像内的亮度差异，从而减少眩光。HDR改善了数字图像的视觉品质，有助于生成具有专业级外观的报告。

从基本测量到高级分析

测量对于质量、工艺控制和检测至关重要。鉴于这一点，即便是入门级PRECiV软件包也融入了交互式测量功能的全部菜单，并且所有测量结果都与图像文件一起保存以便存档。此外，PRECiV材料解决方案还为复杂图像分析提供面向工作流程的直观界面。只需单击一下按钮，即可快速精准执行图像分析任务。由于大幅缩减了重复任务的处理时间，操作员可以专注于手头的检测工作。

> 了解有关PRECiV软件的更多信息

高效的报告创建

与图像采集和测量相比，创建报告通常需要花费更长的时间。PRECiV软件提供了直观的报告创建功能，可以根据预定义的模板多次生成智能、复杂的报告。编辑操作非常简单，报告可导出为Microsoft Word或PowerPoint文件。此外，PRECiV软件的报告功能可对采集的图像进行数字变焦和倍率放大。报告文件大小适中，更便于通过电子邮件进行数据交换。

> 了解有关PRECiV软件的更多信息

支持洁净室合规性的先进设计

Mx63系列专为洁净室工作而设计，其配备的功能有助于大幅降低样品污染或受损风险。该系统采用人体工学设计，即使长时间使用也有助于保持用户的舒适性。MX63系列符合国际规范和标准要求，包括SEMI S2/S8、CE和UL。

选配晶圆搬送机 — AL120系统*

选配的晶圆搬送机可安装在MX63系列上，实现无需使用镊子或工具即可安全地将硅片及化合物半导体晶圆从片盒转移到显微镜载物台上。卓越的性能和可靠性可实现安全高效的前后宏观检测，同时搬送机还可帮助提高实验室工作效率。

MX63与AL120晶圆搬送机（200 mm版本）结合使用

* AL120未在欧洲、中东和非洲地区上市销售。

快速、洁净的检测

MX63系列可实现无污染的晶圆检测。所有电动组件均安装在防护结构壳内，显微镜镜架、镜筒、呼吸防护罩及其他部件均采用防静电处理。电动物镜转换器的转速比手动物镜转换器更快更安全，缩短检测间隔时间的同时，让操作人员的手始终保持在晶圆下方，避免了潜在的污染。

实现高效观察的系统设计

利用内置离合和XY旋钮，XY载物台能够实现对载物台移动的粗调和微调。即便针对300 mm晶圆这样的大尺寸样品，载物台也可帮助实现高效的观察。
可调倾角观察筒的调节范围可让操作人员以舒适的姿态坐在显微镜前工作。

接受所有晶圆尺寸

直观的显微镜控件：舒适且使用方便

显微镜设置操作简单，用户可以更轻松地进行系统设置的调整和重现。

快速寻找焦点：聚焦辅助器

在光程内插入聚焦辅助器可以轻松准确地聚焦低对比度样品，如裸晶圆。

左图：网格显示图像失焦。/中图：网格辅助对焦。/右图：轻松获得焦点对准的图像。

轻松恢复显微镜设置：编码硬件

编码功能将MX63系列的硬件设置与PRECiV图像分析软件整合在一起。观察方法、照明强度和放大倍率由软件自动记录，并与相关图像存储在一起。由于设置可以轻松重现，因此任何操作员经过基本培训即可完成相同质量的检测工作。

可提高操作速度和舒适性的人体工学控件

用于更换物镜和调整孔径光阑的控件位于显微镜前面较低的位置，因此用户在使用过程中无须松开对焦旋钮或将头从目镜上移开。

利用光强度管理器和自动孔径光阑控制实现更快的观察

对于常规显微镜，用户每次观察都需要调整光强度和孔径光阑。MX63系列使用户能够针对不同的倍率和观察方法设置光强度和孔径光阑大小。这些设置可以轻松调用，从而帮助用户节省时间并保持出色的图像质量。

光强度管理器

自动孔径光阑控制

全面可定制

MX63系列旨在使客户能够选择各种光学组件，以满足其特定的检测和应用需求。该系统可使用所有观察方法。用户还可以从各种PRECiV图像分析软件包中进行选择，以满足其特定的图像采集和分析需求。

两个系统兼容多种样品规格

MX63系统可处理尺寸达200 mm的晶圆，而MX63L系统可以处理尺寸达300 mm的晶圆，但占地面积却与MX63系统一样小。模块化设计便于您根据自身的特定需求定制显微镜

红外兼容性

红外观察可以使用红外物镜进行，该物镜利用硅透射红外光的特性，使操作员能够对封装和安装在印刷电路板上的集成电路芯片内部进行无损检测。5倍至100倍红外物镜可实现从可见光波长到近红外波长的色差校正。特别是对于20倍或更高倍率的物镜，可通过校正环对覆盖在观察对象上的硅层引起的像差进行校正，从而获得清晰的图像。

MX63系列可用于各种反射光显微镜应用。此类应用可作为该系统在工业检测应用上的一些示例。

电极截面的红外图像

红外（IR）可用于检查集成电路芯片和其他玻璃基硅制造器件的内部缺陷。

薄膜
（左：明场 / 右：偏振光）

偏振光可用于显示材料的纹理和晶体样貌。其非常适合检测晶圆和LCD结构。

硬盘
（左：明场 / 右：DIC）

微分干涉对比度（DIC）可用于查看具有细微高度差异的样品。该技术非常适合用于检测磁头、硬盘介质和抛光晶圆等具有细微高度差异的样品。

半导体晶圆上的集成电路图形
（左：暗场 / 右：MIX [明场 + 暗场]）

暗场用于检测样品上的微小划痕或缺陷，或检查具有镜面的样品，例如晶圆。MIX照明使用户能够同时查看图形和颜色。

半导体晶圆上的光刻胶残留
（左：荧光 / 右：MIX [荧光 + 暗场]）

荧光适用于使用专门设计的滤光片立方体照明时能够发光的样品。可用于检测污染和光刻胶残留。MIX照明可观察光刻胶残留和集成电路图形。

LCD彩色滤光片
（左：透射光 / 右：MIX [透射光 + 明场]）

这种观察技术适用于透明样品，例如LCD、塑料和玻璃材料。MIX照明可观察滤光片颜色和电路图形。